北京双盘自动金相磨抛机操作简单

金相磨抛机：细磨时相对应于手工推磨的操作过程分别可选用粒度号为240、320、400和600的水砂纸。从水砂纸的安装方法来分水砂纸可分为两种形式，一种背面光滑的，安置时要用卡圈把它固定在转盘上，或用少许的牛油粘合。这是较通用的一种。还有一种是外形和工作盘一致的、背面涂有压敏胶的水砂纸，使用时可直接粘贴在转盘上，十分方便。工抛光的目的是除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕，成为平整无疵的镜面。尽管抛光是金相试样制备中的一道工序并由此而得光滑的镜面，金相磨抛机（双盘双控）两个磨抛盘可单独操作。北京双盘自动金相磨抛机操作简单

金相磨抛机：机械磨光法 随着技术生产的发展，费时的手工细磨操作正在被便捷的机械细磨逐步代替。机械细磨的主要优点是效率高、同时由于在磨光过程中有水不断冷却、润滑热量及磨粒不断被带走，因此不易产生变形层，金相试样的质量容易控制。号机械细磨的主要设备是预磨机。预磨机主要由一个电动机带动一个或两个转盘及冷却部分组成，电动机的转速为600r/min。冷却水直接可接用自来水，流量可调。机械细磨要用水砂纸，其规格分档情况见表1-4机械粗磨时，可选用粒度号为50～180的水砂纸。北京双盘自动金相磨抛机操作简单金相磨抛机对试样显微分析的正确性制作过程发挥重要作用。

金相磨抛机维护：为了确保磨抛机有更长的使用寿命，强烈建议您进行日常维护和清洁。用柔软的湿布和普通家用洗涤剂清洁漆层表面和控制面板。不要使用干布擦拭，表面会产生划痕。油脂可以用乙醇或异丙醇去除。不要用苯或类似的溶剂。清理转换盘上的磨料及残渣避免腐蚀转换盘系统。防粘盘每次使用完成后应取下晾干。定期清理排水管道保持排水畅通。定期清理槽里的污物，不能使用坚硬物体，避免损坏水槽。清理水槽时应注意不能将水及污物罐如槽中心的孔内，会损坏转动装置。

金相磨抛机：抛好光后的试样，若直接放在显微镜下观察，只能看到一片亮光，能观察某些非金属夹杂物、灰口铸铁中的石墨、粉末冶金制品中的孔隙等，无法辨别出各种组成物及其形态特征。为了把磨面的变形层除去，同时还要把各个不同的组成地区分开来，得到有关显微组织的信息，就要进行显微组织的显示工作。按金相组织显示方法的本质可以分为化学、物理二类。化学方法主要是浸蚀方法，包括化学浸蚀，电化学浸蚀及氧化法，是利用化学试剂的溶液借化学或电化学作用显示金属的组织。本课程实验使用的全部试样均采用化学浸蚀方法制作。金相试样表面的化学浸蚀可以是化学溶解作用，也可以是电化学溶解作用。这取决于试样材料的组成相的性质及它们的相对量。金相磨抛机（全自动）也可以通过手动操作参数制样，方便制样多样性。

金相磨抛机抛光时注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大，并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多，会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落，抛光面质量不佳；若抛光液太少，将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动，以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。 尽量减少抛光面表层金属变形的可能性，整个光时间不易过长，磨痕全部消除，出现镜面后，抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。金相磨抛机（全自动）本机采用PLC控制。北京双盘自动金相磨抛机操作简单

金相磨抛机（全自动）采用8寸触摸屏操作控制，直观的触摸屏界面，自动调压力。北京双盘自动金相磨抛机操作简单

金相磨抛机单步操作界面：此操作界面有三种操作方式，自动制备、手动制备，磨头操作。所有的操作都是同样的参数。首先在参数设置区设置好参数，同理选择好磨盘与磨头旋转方向。自动制备：磨盘与磨盘同时转动，当设定时间结束后制备进程就会结束，制备步骤不一样参数每一次都得需要更改。手动制备：如果试样不能使用标准试样移动盘或者试样夹具座进行制备，可以手动制备，或者在自动制备过程中没有达到理想制样可以通过手动制备解决。（当手动研磨时，注意不要接触到研磨盘！不要在转盘旋转时尝试从托盘中取出试样！当转盘转动时，确保手部远离转盘外且远离防溅碗！）磨头转动：可以用着抛光使用，但是所需要的压力很小。注：在所有的制备进程中，水阀都可以手动打开或者关闭。 北京双盘自动金相磨抛机操作简单

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