体视显微镜OC-645S一、介绍OC-645S体视显微镜是国产显微镜中比较好的显微镜,为日本NIKON提供OEM生产,创见性人机学设计,更加保证操作者长时间舒适操作。二、特点1.体视显微镜和数码摄像机相连,显微图象可实现高分辨率数值化,总像素超过三百万像素的高分辨率,照片进入计算机系统以保存和打印,可按要求实现定倍打印;2.使用的计算机可用笔记本计算机,操作简单、携带方便;3.图像各种参数测量***、准确;4.图片标尺可叠加在照片上,从而始终确定放大倍数,始终满足实验报告的要求。5.防静电功能:架台、变倍镜筒、10X目镜、辅助物镜等都具有防静电功能。6.密封功能:变倍镜筒、10X目镜都具有密封功能,当显微镜在油汽、水汽等湿度较高的环境中仍能方便的使用。7.防霉功能:在高温或潮湿的环境下都能安然无恙。8.具有高清晰度、大视场,长工作距离等特点,逼真地再现了物体的三维影像。金相自动研磨机 数据可进行分析、存档、打印。广东倒置金相打磨机
3.定碳片1.定碳片的应用特点使用定碳片测定炉内碳势与使用氧探头和红外仪等方法不同,它直接反映炉内真实碳势值,因此是对仪表显示结果的监测。2.定碳片规格原始含碳量:0.03%;尺寸:长×宽×厚(mm):150×15×0.08mm,有吊挂孔。3.使用方法3.1擦去定碳片表面上的油污,再用**清洗干净;3.2用铁丝穿入吊挂孔挂牢,通过试样孔放入炉内适当位置;3.3在炉内放置30-40分钟,使定碳片含碳量与炉内气氛达到平衡;3.4取出定碳片进行含碳量测定,所得结果即为炉内碳势。广东倒置金相打磨机金相试样自动磨抛机 支持中英文语言切换。
金刚石悬浮抛光液。三、规格及说明1、金刚石悬浮抛光液(单晶):粒度:0.25um,0.5um,1um,1.5um,2.5um,3um,3.5um,5um,6um,7um,9um,10um,14um,15um,20um,28um,40um;单晶悬浮液***适用于超硬材料、硬质合金等硬质材料的研磨抛光。既可以提高磨削速率,又可以将磨削过程中产生的大量热量迅速排走,从而避免工件表面被烧伤;2、金刚石悬浮抛光液(多晶):粒度:0.5um,5um1,3um,6um,9um;多晶悬浮液磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤,为后续精密抛光加工提供了良好的条件。***用于光学晶体、陶瓷、超硬。
金刚石切割片一、介绍金刚石精密切割片广泛应用于晶体,半导体,磁性材料,精密陶瓷,光学玻璃,光导纤维等脆性材料的高精密切断,切割锋利,切缝窄,可大幅度提高贵重原材料的利用率。1、MDCW金属金刚石:切割片密度均匀,平整耐用,确保切割快速平稳,切缝精确,切面光亮平整,切割烧损下降。用于切割硬度极高的非金属矿物质、玻璃、陶瓷、延性,硬脆性材料等样品。规格:Φ100×0.3×12.7mm、Φ125×0.4×12.7mm、Φ150×0.5×12.7mm、Φ175×0.6×12.7mm、Φ200×0.8×22mm、Φ254×1.2×32mm、Φ305×1.5×32mm2、RDCW树脂金刚石:切割片密度均匀,平整耐用,确保切割快速平稳,切缝精确,切面光亮平整,切割烧损下降。用于切割硬度极高的金属和硬质合金等。规格:Φ100×0.5×12.7mm、Φ125×0.6×12.7mm、Φ150×0.7×12.7mm、Φ175×0.8×12.7mm、Φ200×1.0×22mm、Φ254×1.2×32mm、Φ305×1.5×32mm真空冷镶嵌机冷却时间快。
通风柜一.产品介绍VTC排风系统是**于实验室,尤其是实验室进行低倍样品腐蚀时,对腐蚀产生的酸雾进行抽排,保证室内满足空气标准的系统。该系统耐腐蚀,美观,可定制以便和实验室其他设备和家具摆放整齐。将低倍酸蚀装置和排风柜组成一体。二.主要参数:1、排风采用液晶面板、微机控制;2、采用低噪音,强力防酸风机;3、各部件由耐酸材料制成,长期使用不腐蚀;4、工作台面:专业耐酸、耐高温环氧树脂板,厚度20mm;5、柜体:采用厚8mm瓷白色PP制作,耐酸碱性能优异。经CNC精确裁切加工后,同色同质焊条熔焊修饰处理,表面无锐角。6、带PP水槽:尺寸:384*285*270mm7、尺寸(毫米):1800(宽)X850(深)X2350(高),可定制;8、低倍酸蚀装置(选配)和排风系统组成一体(见右图);9、带加热水装置,以便及时利用热水冲洗样品。金相自动磨抛机中心加压。新疆实验金相冷镶嵌树脂
低速精密切割机使用方便。广东倒置金相打磨机
抛光粉一、用途 抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。通常,氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光,氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。 二、规格参数 1、金刚石抛光微分:粒度:0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um,供用户自己选用载体,进行研磨抛光; 2、氧化铝研磨抛光粉:粒度:0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um,用于研磨抛光; 3、碳化硅研磨抛光粉:粒度:0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um,用于研磨抛光; 4、氧化铬抛光粉:粒度:0.5um,1um,用于研磨抛光; 广东倒置金相打磨机