二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点:高抛光速率、高纯度,有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格::0.02um、0.05um二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点:高抛光速率、高纯度,有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格::0.02um、0.05um金相抛光机两档定速。上海自动金相冷镶嵌树脂
样品电刻笔一、用途电刻笔适用于金属及玻璃、瓷器、大理石等非金属等材料上的雕刻。二、使用方法:1、接通电源,右手握住电刻笔;2、像拿笔一样的姿势,稍微倾斜一个角度(45度角),并将手搁在台面上,手指按住微动开关即可刻写,松开即停止刻写。刻写时不要硬往下压,比平常书写速度稍慢。3、电刻笔上部有一旋钮可调整刻写深度,通过多次反复刻写掌握它的性能,以满足您所需刻写材料的字体大小及深度要求。4、电刻笔出厂时配有硬质合金刻头,它能满足玻璃、金属、陶瓷以及其它较硬材料的刻写,然而对于工业化的边续刻写则需用**的金刚石刻头。5、刻头磨损后,电刻笔拧开螺钉装卸旋钮,重新换上刻头。山西倒置金相不锈钢晶间腐蚀全自动金相切割机品牌。
产品特点:1、采用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程,独特的PID温度控制计算方法,消除了低倍组织制样过程的不确定性,提高低倍组织制样的重复性。2、触摸屏操控显示,简单直观。3、控制单元和酸蚀槽工作分开设计,增加控制单元工作寿命。4、酸蚀槽采用特殊材料制作,耐酸耐高温,封闭的酸蚀槽确保腐蚀溶液的挥发对环境的污染和人体的伤害。5、采用三层样品隔离放置方式,样品取放方便且增加了工作空间,改善了腐蚀***性。6、有排液阀门,方便排放腐蚀废液。7、样品托盘可完全取出,清洗容易。8、紧凑的酸蚀槽,完全可与抽风柜配合使用,增加工作环境的舒适性。9、尺寸多样性,完全可以按照客户要求定制。
industryTemplate晶间腐蚀仪器 用于焊接缺陷的检查。
低倍组织热酸蚀装置HSC-2000产品特点:1、采用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程,独特的PID温度控制计算方法,消除了低倍组织制样过程的不确定性,提高低倍组织制样的重复性。2、触摸屏操控显示,简单直观。3、控制单元和酸蚀槽工作分开设计,增加控制单元工作寿命。4、酸蚀槽采用特殊材料制作,耐酸耐高温,封闭的酸蚀槽确保腐蚀溶液的挥发对环境的污染和人体的伤害。5、采用三层样品隔离放置方式,样品取放方便且增加了工作空间,改善了腐蚀***性。6、有排液阀门,方便排放腐蚀废液。7、样品托盘可完全取出,清洗容易。8、紧凑的酸蚀槽,完全可与抽风柜配合使用,增加工作环境的舒适性。9、尺寸多样性,完全可以按照客户要求定制。金相磨抛机单点加压。福建树脂金相抛光研磨机
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金相切割片 适用于非铁基有色金属材料HV<375规格:Φ100×0.3×12.7mm、Φ125×0.4×12.7mm、Φ150×0.45×12.7mm、Φ175×0.5×12.7mm、Φ200×1.0×32mm、Φ230×1.2×32mm、Φ250×1.5(2.0)×32mm、Φ300×1.5(2.0)×32mm、Φ350×2.5×32mm、Φ400×3.0×32mm、Φ450×3.5×32mm、Φ500×4.0×32mm2、HWA高硬克星:切削锋利,样品热影响层浅,和母体分割不会产生组织变化。适用于铁基黑色金属材料HV375~600规格:Φ100×0.3×12.7mm、Φ125×0.4×12.7mm、Φ150×0.45×12.7mm、Φ175×0.5×12.7mm、Φ200×1.0×32mm、Φ230×1.2×32mm、Φ250×1.5(2.0)×32mm、Φ300×1.5(2.0)×32mm、Φ350×2.5×32mm、Φ400×3.0×32mm、Φ450×3.5×32mm、Φ500×4.0×32mm3、HSA硬克星:切削锋利,样品热影响层浅,和母体分割不会产生组织变化。适用于铁基黑色金属材料HV>600规格:Φ200×1.0×32mm、Φ230×1.2×32mm、Φ250×1.5(2.0)×32mm、Φ300×1.5(2.0)×32mm、Φ350×2.5×32mm、Φ400×3.0×32mm、Φ450×3.5×32mm、Φ500×4.0×32mm上海自动金相冷镶嵌树脂