南京单晶硅HJTPECVD

高效HJT电池整线装备，PVD优点沉积速度快、基材温升低；所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好；溅射工艺可重复性好，精确控制厚度；膜层粒子的散射能力强，绕镀性好；不同的金属、合金、氧化物能够进行混合，同时溅射于基材上；缺点：常规平面磁控溅射技术靶材利用率不高，一般低于40％；在辉光放电中进行，金属离化率较低。反应等离子体沉，RPD优点：对衬底的轰击损伤小；镀层附着性能好，膜层不易脱落；源材料利用率高，沉积速率高；易于化合物膜层的形成，增加活性；镀膜所使用的基体材料和膜材范围广。缺点：薄膜中的缺陷密度较高，薄膜与基片的过渡区较宽，应用中受到限制（特别是电子器件和IC）；薄膜中含有气体量较高。HJT电池的高效性和长寿命使其成为太阳能发电的可靠选择。南京单晶硅HJTPECVD

HJT异质结（Heterojunction with Intrinsic Thin-layer，HJT）电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层（包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H）、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。HJT是很有潜力优势的技术，在将来HJT电池与钙钛矿技术进行复合叠层，突破转换效率30%成为可能。南京单晶硅HJTPECVDHJT 电池可以选择制备种子层或不制备种子层直接电镀。

高效HJT电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。釜川，以半导体生产设备、太阳能电池生产设备为主要产品，打造光伏设备一体化服务。HJT整线解决商， HJT装备与材料：包含制绒清洗设备、PECVD设备、PVD设备、金属化设备等。 电镀铜设备：采用金属铜完全代替银浆作为栅线电极，具备低成本、高效率等优势。

光伏异质结的效率提高可以从以下几个方面入手：1.提高光吸收率：通过优化材料的能带结构和厚度，增加光吸收的有效路径，提高光吸收率，从而提高光电转换效率。2.提高载流子的收集效率：通过优化电极结构和材料，减小电极与半导体之间的接触电阻，提高载流子的收集效率，从而提高光电转换效率。3.降低复合损失：通过控制材料的缺陷密度和表面状态，减少载流子的复合损失，从而提高光电转换效率。4.提高光电转换效率：通过优化材料的能带结构和电子结构，提高光电转换效率，从而提高光伏异质结的效率。5.提高光伏电池的稳定性：通过优化材料的稳定性和耐久性，提高光伏电池的使用寿命和稳定性，从而提高光伏异质结的效率。HJT电池的高效性和可靠性使得它在新能源领域具有广泛的应用前景，未来有望成为新能源技术的主流方向之一。

HJT电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。HJT电池转换效率高，拓展潜力大，工艺简单并且降本路线清晰，契合了光伏产业发展的规律，是有潜力的下一代电池技术。HJT电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。光伏HJT是一种高效的太阳能电池技术，能够将太阳能转化为电能。广东0bbHJT低银

HJT电池的高效性和长寿命使其在太阳能发电领域具有广泛的应用前景。南京单晶硅HJTPECVD

HJT电池生产设备，本征非晶硅薄膜沉积（i-a-Si:H）i-a-Si:H/c-Si界面处存在复合活性高的异质界面，是由于界面处非晶硅薄膜中的缺陷和界面上的悬挂键会成为复合中心，因此需要进行化学钝化；化学钝化主要由氢钝化非晶硅薄膜钝化层来完成，将非晶硅薄膜中的缺陷和界面悬挂键饱和来减少复合性缺陷态密度。掺杂非晶硅薄膜沉积场钝化主要在电池背面沉积同型掺杂非晶硅薄层形成背电场，可以削弱界面的复合，达到减少载流子复合和获取更多光生载流子的目的；掺杂非晶硅薄膜一般采用与沉积本征非晶硅膜层相似的等离子体系统来完成；p型掺杂常用的掺杂源为硼烷(B2H6)混氢,或者三甲基硼(TMB)；n型掺杂则用磷烷混氢（PH3)。优越的表面钝化能力是获得较高电池效率的重要条件，利用非晶硅优异的钝化效果，可将硅片的少子寿命大幅度提升。南京单晶硅HJTPECVD