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南京HJT异质结价格

来源: 发布时间:2024年01月07日

高效异质结电池生产流程中使用的设备,PECVD 1.等离子化学气相沉积(PlasmaEnhancedCVD,PECVD)是指利用辉光放电的物理作用来化学气相沉积反应的CVD技术;2.异质结非晶硅薄膜沉积是采用RPECVD技术,射频等离子体增强化学气相沉积(RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD),是PECVD的另外一种技术。它是利用射频能量使反应气体等离子化。优点:低温成膜(300-350℃),对基片影响小,避免了高温带来的膜层晶粒粗大;l低压下形成薄膜厚度及成分较均匀、膜层致密、内应力小,不易产生裂纹;l扩大CVD应用范围,特别是在不同基片上制备金属薄膜、非晶态无机薄膜等,薄膜的附着力大于普通CVD。光伏异质结技术的广泛应用能够推动光伏产业的创新发展,促进科技进步和经济增长。南京HJT异质结价格

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异质结太阳能电池使用晶体硅片进行载流子传输和吸收,并使用非晶/或微晶薄硅层进行钝化和结的形成。顶部电极由透明导电氧化物(TCO)层和金属网格组成。异质结硅太阳能电池已经吸引了很多人的注意,因为它们可以达到很高的转换效率,可达26.3%,相关团队对HJT极限效率进行更新为28.5%,同时使用低温度加工,通常整个过程低于200℃。低加工温度允许处理厚度小于100微米的硅晶圆,同时保持高产量。异质结电池具备光电转化效率提升潜力高、更大的降成本空间、更高的双面率、可有效降低热损失、更低的光致衰减、制备工艺简单等特点,为光伏领域带来了新的希望。江西新型异质结设备供应商光伏异质结与钙钛矿太阳能电池的结合,进一步提高了太阳能电池的转换效率。

高效异质结电池整线解决方案,TCO的作用:在形成a-Si:H/c-Si异质结后,电池被用一个~80纳米的透明导电氧化物接触。~80纳米薄的透明导电氧化物(TCO)层和前面的金属网格。透明导电氧化物通常是掺有Sn的InO(ITO)或掺有Al的ZnO。通常,TCO也被用来在电池的背面形成一个介电镜。因此,为了理解和优化整个a-Si:H/c-Si太阳能电池,还必须考虑TCO对电池光电性能的影响。由于其高掺杂度,TCO的电子行为就像一个电荷载流子迁移率相当低的金属,而TCO/a-Si:H结的电子行为通常被假定为类似于金属-半导体结。  TCO的功函数对TCO/a-Si:H/c-Si结构中的带状排列以及电荷载流子在异质结上的传输起着重要作用。此外,TCO在大约10纳米薄的a-Si:H上的沉积通常采用溅射工艺;在此,应该考虑到在该溅射工艺中损坏脆弱的a-Si:H/c-Si界面的可能性,并且在工艺优化中必须考虑到。

高效异质结电池整线装备,物理的气相沉积,PVD优点沉积速度快、基材温升低;所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好;溅射工艺可重复性好,精确控制厚度;膜层粒子的散射能力强,绕镀性好;不同的金属、合金、氧化物能够进行混合,同时溅射于基材上;缺点:常规平面磁控溅射技术靶材利用率不高,一般低于40%;在辉光放电中进行,金属离化率较低。反应等离子体沉,RPD优点:对衬底的轰击损伤小;镀层附着性能好,膜层不易脱落;源材料利用率高,沉积速率高;易于化合物膜层的形成,增加活性;镀膜所使用的基体材料和膜材范围广。缺点:薄膜中的缺陷密度较高,薄膜与基片的过渡区较宽,应用中受到限制(特别是电子器件和IC);薄膜中含有气体量较高。釜川自主研发的“零界”高效异质结电池整线制造解决方案已实现设备国产化。

HJT电池整线装备,形成洁净硅片表面,由于HJT电池中硅片衬底表面直接为异质结界面的一部分,避免不洁净引进的缺陷和杂质而带来的结界面处载流子的复合。碱溶液浓度较低时,单晶硅的(100)与(111)晶面的腐蚀速度差别比较明显,速度的比值被称为各向异性因子(anisotropicfactorAF);因此改变碱溶液的浓度及温度,可以有效地改变AF,使得在不同方向上的速度不同,在硅片表面形成密集分布的“金字塔”结构的减反射绒面;在制绒工序,绒面大小为主要指标,一般可通过添加剂的选择、工艺配比的变化、工艺温度及工艺时间等来进行调节控制。异质结电池能够提供更高的能量转换效率,有助于降低光伏发电的成本,提高电力系统的经济性。南京HJT异质结价格

异质结电池提升了太阳能电池的转换效率、良率和产能,并极大降低了生产成本。南京HJT异质结价格

异质结(Heterojunction with Intrinsic Thin-layer,HJT)电池为对称的双面结构,主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层(包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H)、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中,本征非晶硅层起到表面钝化作用,P型掺杂非晶硅层为发射层,N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。HJT是有潜力优势的技术,在将来HJT电池与钙钛矿技术进行复合叠层,突破转换效率30%成为可能。南京HJT异质结价格