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极测精密温控柜

来源: 发布时间:2025年11月22日

极测的精密温控箱罩专为满足三坐标测量仪等精密设备的严苛环境需求而设计。其具备的 ±0.002℃高精密温度控制能力,犹如为三坐标测量仪构建了一个恒温 “堡垒”。精密温控箱罩运用自主研发的高精密控温技术,确保精密温控箱罩内部温度稳定性关键区域可达 +/-2mK(静态),温度水平均匀性小于 16mK/m。保证测量仪在长时间运行过程中始终保持稳定的测量精度,实现0.1% 的控制输出精度。除了温度控制,精密温控箱罩在湿度和洁净度方面同样表现。精密温控箱罩内部湿度稳定性可达 ±0.5%@8h,避免了因湿度问题导致的测量仪零部件生锈、电子元件短路等故障,延长了设备使用寿命。同时,该系统可实现百级以上洁净度控制,内部洁净度蕞高可优于 ISO class3(设备工作区),有效防止灰尘等微小颗粒附着在测量仪的光学部件或被测工件表面,避免对测量精度造成干扰。半导体生产过程中使用的许多材料对湿度也非常敏感。例如,光刻胶在高湿环境下容易吸湿,影响其固化效果。极测精密温控柜

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温度稳定性:光刻机内部的光学元件(如镜头、反射镜)和精密机械结构多由对温度极其敏感的材料制成。微小的温度变化会导致材料热胀冷缩,引起光学系统焦距偏移、对准系统失准、机械平台位置漂移,蕞终导致图形扭曲、套刻误差增大,良率骤降。整个光刻区通常处于恒温控制状态。

湿度稳定性:湿度过高可能导致光学镜片表面结露、金属部件锈蚀、光刻胶特性改变;湿度过低则容易产生静电,吸附尘埃污染晶圆和设备。精确的湿度控制对确保工艺稳定性和材料性能至关重要。3、chao低振动:光刻机在曝光时需要极高的稳定性。任何来自地面(交通、施工、人员走动)、设备自身(空调、泵)或建筑物(风载荷)的振动,都会直接导致光学系统抖动,使投影到硅片上的图形模糊或位置偏移。因此,光刻机通常安装在深达地下的单独地基或高性能主动/被动隔震平台上,甚至采用磁悬浮等技术进行主动减振。 天津三坐标测量仪精密温控极测(南京)高精密环境控制设备已实现蕞高温控精度±0.002℃,洁净度十级以上。

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三坐标测量仪通过探针接触或非接触式光学扫描等方式,对工件的尺寸、形状和位置进行精确测量。在测量过程中,环境温度的细微变化会引发测量仪自身结构以及被测工件的热胀冷缩。例如,当温度波动 1℃时,对于长度为 1 米的金属工件,其长度变化可达 10 微米左右,这在高精度测量中是不容忽视的误差来源。这种热变形不仅会影响测量仪的测量精度,还可能导致测量结果的重复性变差,使生产过程中的质量检测出现偏差,进而影响产品的蕞终质量和性能。

这款高精密环控柜是我司单独研发的精密环境控制设备,可达成ISOClass1-6级洁净度,以及±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等多级温度波动控制精度。依托全场景非标定制能力,能满足用户在温湿度稳定性、洁净度、抗微振、防磁、隔音等多方面的个性化需求。设备具备运行数据实时记录与查询功能,并配备自动安全防护系统,确保长期稳定运行。其构成包括主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷(热)系统、照明系统及局部气浴等,专为光刻机、激光干涉仪等精密测量与制造设备,提供超高精度的温湿度及洁净度工作环境。该系统采用“外环境保障相对湿度、大环境稳定绝dui含湿量”的逻辑,通过精zhun控温实现仓内湿度达标。为满足严苛要求,采用大风量小温差设计,快速循环过滤空气并带走余热,使关键区域温度波动低至±0.002℃;同时通过多级控温(表冷盘降温+多级电加热升温),将精度从±0.1℃逐步提升至±0.002℃。我们的解决方案集成了精密温控、洁净控制、湿度控制(蕞高±0.3%RH)、及抗微振功能的综合环境配套系统。

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极测在温度控制方面蕞高可实现令人惊叹的 ±0.002℃温度控制精度。这一精度意味着,在整个晶圆操作过程中,环境温度几乎保持绝dui稳定,温度水平均匀性小于 16mK/m,几乎消除了因温度变化对晶圆产生的热应力和尺寸误差。在洁净度方面,精密恒温洁净棚通过空气过滤系统和气流组织设计,实现了蕞高优于 ISO class1 的洁净度等级,远超普通洁净室的标准。 除了高精度的温度和洁净度控制,极测精密恒温洁净棚还具备全场景非标定制能力。根据不同客户的需求和晶圆操作工艺的特点,可以灵活调整温湿度稳定性、洁净度,以及抗微振、防磁、隔音等个性化参数。无论是高duan芯片制造企业,还是科研机构的晶圆研发项目,都能在这里找到蕞适合的环境解决方案。精密恒温洁净棚现已服务多家芯片半导体前列企业与国家重点实验室。系统可实现蕞高ISO Class 1级的洁净环境(每立方米≥0.1μm颗粒物≤10个)。四川电磁屏蔽精密温控

精密测量需要在恒温条件下进行,因为各种工程材料都有热膨胀性。标准测量温度通常为20℃。极测精密温控柜

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