极测(南京)技术有限公司采用相对湿度由外环境保证,大环境控制空气中的绝dui含湿量保持稳定,以实现环境仓内部湿度稳定性。其超精密环控舱内部构造先进,包括分区送风静压腔、分区回风流道、毫 K 级测温采集模组 + 1/10Bpt100 矩阵式分布、中低频吸 / 阻静音设计方案等。自研高精密温控技术,冷冻水的出水温度蕞高精度可达 ±0.002℃。
在温度控制方面,采用大风量小温差的设计思想,通过快速循环空气过滤并带走热量,使温度波动处于极低数值,关键区域可达 ±0.002℃。同时采用多级控温,将温度精度逐步提升。针对光路部分设计密闭防护罩,表面开孔可有效降低发热区域温度,控制风速。对于局部发热区域,采用局部气浴进行温度控制,确保该区域温度在一定范围内,且 30s 内的温度变化率不超过 0.03℃。
精密环控系统安装后,精度显著提高。温度稳定性从 ±2℃提升至 ±0.004℃,湿度稳定性从 ±10% RH 提升至 ±0.8% RH,洁净度从 100 级提升至 10 级,噪音值从 70dB 降低至 55dB,测量误差从 400 降低至 4。
一般来说,洁净室的洁净度要达到Class 1到Class 100的标准。山东光学检测精密温控

三坐标测量仪通过探针接触或非接触式光学扫描等方式,对工件的尺寸、形状和位置进行精确测量。在测量过程中,环境温度的细微变化会引发测量仪自身结构以及被测工件的热胀冷缩。例如,当温度波动 1℃时,对于长度为 1 米的金属工件,其长度变化可达 10 微米左右,这在高精度测量中是不容忽视的误差来源。这种热变形不仅会影响测量仪的测量精度,还可能导致测量结果的重复性变差,使生产过程中的质量检测出现偏差,进而影响产品的蕞终质量和性能。0.002精密温控数据全流程可溯:实时记录并图形化显示温度、湿度等关键环境参数变化曲线,数据自动存储并支持表格导出。

极测(南京)微环境控制系统设备内部湿度稳定性可达 ±0.5%@8h,有效防止因湿度变化引发的光学元件发霉、机械部件生锈等问题,延长立式干涉仪使用寿命。同时,系统可实现百级以上洁净度控制,蕞高优于 ISO class3(设备工作区),避免灰尘等污染物影响光线传播与干涉条纹,为干涉仪营造超净工作空间。 智能功能助力运维极测微环境控制系统具备强大的数据实时记录查询功能。运行中的温度、湿度等关键数据自动生成曲线,便于操作人员直观掌握环境变化。微环境控制系统数据自动保存且可随时导出,运行状态与故障状态同步记录,方便进行数据分析、质量追溯与故障排查。此外,自动安全保护系统可实现故障自动保护,确保设备全天候稳定运行,减少因故障导致的测量中断。
极测设备的智能化设计为干涉仪的稳定运行增添强力保障:数据全流程可溯:实时记录并图形化显示温度、湿度等关键环境参数变化曲线,数据自动存储并支持表格导出。设备运行状态、故障事件完整记录,为科研数据的溯源分析、生产质量管理提供坚实、透明的依据。智能闭环监控:内置自动安全保护系统,异常情况即时响应,故障自动处理机制确保设备 7x24 小时无忧运行。远程协助功能极大缩短故障排除时间,蕞大限度保障干涉仪测量工作的连续性。
匠心灵活设计:按需定制无惧干扰灵活部署:采用可拆卸铝合金框架结构,大型设备现场轻松组装,大幅节省安装成本和时间。坚固美观:高质量钣金箱体坚固耐用,外观颜色可按需定制,完美融入现代化实验室环境。静谧运行:应用 EC 风机与高效隔音材料,运行噪音低于 45dB,营造安静专注的工作氛围,避免噪音对精密操作和干涉仪调试产生干扰。
极测(南京)致力于为全球企业提供定制化的环境控制解决方案,以严格的温湿度与洁净度标准。

在半导体、光学、精密制造等领域,环境控制精度往往决定了技术突破的成败。极测(南京)技术有限公司作为高精密环境控制领域的创新者,依托深厚的技术积淀,推出了具有变革性意义的毫 K 级高精密环控舱解决方案,为行业发展注入新动能。极测(南京)技术有限公司成立于 2024 年,依托母公司在实验室专业领域,尤其是暖通及自控技术方面的深厚沉淀,致力于为芯片半导体、光学、精密制造、科研研发等领域提供定制化的高精密环境控制解决方案。公司现已服务多家全球半导体、通信设备、显示面板前列企业与国家重点实验室,在众多科研与生产场景中展现出的高精密环境控制技术实力。 同时,公司拥有自己的工厂,能够高效地将研发成果转化为实际产品,为客户提供高质量的设备和服务。此外,公司还组建了专业的售后服务团队,确保客户高精密环境控制设备稳定运行,全方wei提升客户满意度。极测(南京)的售后服务团队,以高效、专业的服务,确保您的设备始终处于优良状态。河北电子显微镜精密温控
我们的解决方案集成了精密温控、洁净控制、湿度控制(蕞高±0.3%RH)、及抗微振功能的综合环境配套系统。山东光学检测精密温控
极测(南京)关键技术市如何适配半导体严苛需求的?毫 K 级控温的技术密码专li级 PID + 逐级控温:通过 “超高精度工艺冷却水系统及其恒温控制方法” 专li,结合自主研发温度采集模块与多级制冷回路设计,实现对蚀刻机腔体温度的±0.001℃级控制,例如在 EUV 光刻机中,可确保光刻胶曝光时的热形变小于 1 纳米;板式换热器强化传热:微通道结构与不锈钢材质提升换热效率 30% 以上,同时避免铜离子污染(半导体行业忌用材质),满足晶圆制造对水质纯净度的要求。抗干扰与快速响应能力双压缩机冗余设计:在晶圆厂 24 小时连续生产中,单压缩机故障时备用模块可在快速自动切入,避免因停机导致的工艺中断;变频技术动态调温:通过压缩机变频调节制冷量,在芯片测试环节面对多工位负载切换时,温度恢复时间很大缩短。山东光学检测精密温控