锆和铪金相制备纯锆和铪是一种软的易延展的六方密排晶格结构的金属,过度的研磨和切割过程中容易生成机械孪晶。同其它难熔金属一样,研磨和抛光速率较低,去除全部的抛光划痕和变形非常困难。甚至在镶嵌压力下产生孪晶,两相都有硬颗粒导致浮雕很难控制。为了提高偏振光敏感度,通常在机械抛光后增加化学抛光。为选择,侵蚀抛光剂可以加到终抛光混合液里,或者增加震动抛光。四步制备程序,其后可以加上化学抛光或震动抛光。有几种侵蚀抛光剂可以用于锆和铪,其中一种是1-2份的双氧水与(30%浓度–避免身体接触)8或9份的硅胶混合。另一种是5mL三氧化铬溶液(20gCrO3,100mL水)添加95mL硅胶或氧化铝悬浮抛光液混合液。也可少量添加草酸,氢氟酸或硝酸。钛合金抛光应该用什么抛光液?特殊抛光液技术指导
铍的金相制样制备,铍也是一种对操作者身体健康有损害的难制备的金属。只有那些熟悉铍的毒物学并配备防护装备的人员才可以制备这种金属。研磨灰尘有很大的毒性。湿法切割可以预防空气污染,但其微粒必须妥当处理。同镁一样,铍容易切割或研磨损伤,产生机械峦晶。载荷要求低。虽然有些作者声称不可以用水,即使在研磨过程也是如此,但另有报告说用水没问题。 步骤,将一份双氧水(30%浓度–避免身体接触)与五份硅胶混合。草酸溶液(5%浓度)和氧化铝抛光液也可以用于侵蚀抛光。为了获得偏振光感应,应增加比例1-10的双氧水和硅胶悬浮抛光液的震动抛光。特殊抛光液技术指导怎么根据材质选择抛光液?
微电子材料所指的材料范围很广,这是因为微电子设备很复杂,包含大量单个组件。例如,微处理器的失效分析可能会要求金相工作者正好从多层镀层(例如氧化物、聚合物、易延展的金属如铜或铝、难熔金属如钨或钛-钨)的硅片的横截面切割。另外,包装材料也可能含有机械性能各异的材料如I氧化铝或焊料。这些焊料有可能含有高达97%的铅。可以想象将这么多性能各异的材料整合到一个单一的设备里,并开发出一个适用于所有材料的制备程序的可能性就不存在,所以我们必须将注意力集中在几种材料上,去开发我们所要关注材料的试样制备程序。硅对硅胶的化学机械抛光反应良好,但与氧化铝的反应较差。氧化铝悬浮液可以用于终的抛光,这就又返回到以前提到的试样制备理论了。当硅模与铅框材料,例如镀镍的铜,铅框和模具材料被制备时。此时,我们不用考虑硅的表面光洁度,相反我们要确保镍没有出现挂灰以利于辨别铅框材料的真实组织。
赋耘金刚石悬浮抛光液产品特征:金刚石悬浮抛光液质量稳定,粒度可控,颗粒度分布集中,具有以下特点:1、软硬度适中、不划伤被抛物面2、悬浮性好,不易沉淀,使用方便。3、分散性好、乳液均一,极大提高了抛光效率和精度。金刚石悬浮抛光液适用领域:用于光学镜头、单芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面、宝石、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带等方面的精密抛光。赋耘金刚石悬浮抛光液分三大类:单晶金刚石悬浮抛光液,多晶金刚石悬浮抛光液,彩色高磨削率金刚石悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液注意事项:1、以防少许沉淀,建议使用前先摇匀。2、使用时,以不同浓度并据不同行业的需要可用过滤清洁水加以稀释,调制不同浓度。金相抛光液的使用方法和技巧。
镁的金相制样制备,镁和镁合金由于基体硬度较低而沉淀相硬度较高,故而很难制备,这就很容易导致浮雕现象。切割、研磨或载荷太大可能造成机械栾晶。 终的抛光和清洁操作,应设法避免或 小限度使用水或者各种特定的溶液。纯镁会水侵蚀较慢,但镁合金却容易被水侵蚀。有些作者说,不要在任何制备步骤中用水,他们将1到3份的甘油混合到酒精中作为润滑剂,甚至在研磨制备步骤中都使用配制的甘油酒精混合液。打磨240#,600#水冷却,金相抛光布9微米,3微米配合油基金刚石悬浮抛光液。0.05微米氧化铝悬浮抛光液作为氧化精抛配聚氨酯阻尼布。金刚石抛光液的单晶、多晶和爆轰纳米金刚石三种类型有何区别?特殊抛光液技术指导
不同磨料的抛光液,如二氧化硅、氧化铈、氧化铝抛光液的特性对比。特殊抛光液技术指导
铝的金相制样制备,铝是一种软的,易延展的金属。对纯铝来讲,变形是制备所面临的常见问题。制备之后的表面将产生一层保护性的氧化膜,使得腐蚀困难。商业级别的铝会随成分的不同产生不同的金属间化合物微粒。通常,这些金属间化合物微粒比基体更易被腐蚀剂侵蚀。尽管用于鉴定相的特定腐蚀剂已经被研究使用了许多年,但用于铝的制备程序仍要小心谨慎。具体的铝合金五步和四步制备方法,氧化镁是理想的铝和铝合金终抛光介质,但MgO使用起来不容易,并且不能以非常细的粒度提供。硅胶可以替代氧化镁作为终抛光介质,并且可以较细的粒度提供。对于彩色腐蚀和难制备的铝来说,也许需要短时间的震动抛光,以完全去除掉任何损伤痕迹或划伤。五步制备方法被推荐用于特纯和商业纯的铝,以及难制备的精练铝合金。我们针对铝合金案例非常多,配套金刚石悬浮抛光液3微米到6微米效果非常不错。特殊抛光液技术指导