硅胶 初用于单晶硅晶体抛光,配合赋耘氧化抛光布,阻尼布或者高分子合成抛光布 ,那是因为所有的缺陷必须在生长前消除。硅胶是没有固定形状的,溶液基本的PH值约9.5。硅的颗粒,实际上非常接近球形。由于化学和机械过程的双重作用,所以其相应的抛光速度较慢。用硅胶研磨介质比其它研磨介质更容易获得没有缺陷的表面( 终抛光)。腐蚀剂与硅胶抛光后的表面有不同反应。例如,一种腐蚀剂对氧化铝抛光后的表面产生了晶粒反差腐蚀,也许对硅胶抛光后的表面就变成显示晶粒和孪晶晶界的腐蚀。抛光布抛光铜抛光布配合哪种抛光液比较好?浙江工具钢金相抛光布代理加盟
微电子材料所指的材料范围很广,这是因为微电子设备很复杂,包含大量的单个组件。例如,微处理器的失效分析可能会要求金相工作者正好从多层镀层(例如氧化物、聚合物、易延展的金属如铜或铝、难熔金属如钨或钛-钨)的硅片的横截面切割。另外,包装材料也可能含有机械性能各异的材料如I氧化铝或焊料。这些焊料有可能含有高达97%的铅。可以想象将这么多性能各异的材料整合到一个单一的设备里,并开发出一个适用于所有材料的制备程序的可能性就不存在,所以我们必须将注意力集中在几种材料上,去开发我们所要关注材料的试样制备程序。硅对硅胶的化学机械抛光反应良好,但与氧化铝的反应较差。氧化铝悬浮液可以用于终的抛光,这就又返回到以前提到的试样制备理论了。当硅模与铅框材料,例如镀镍的铜,铅框和模具材料被制备时。此时,我们不用考虑硅的表面光洁度,相反我们要确保镍没有出现挂灰以利于辨别铅框材料的真实组织。 湖北带背胶红色真丝绒金相抛光布材质有哪些微电子材料抛光布抛光几道?
对某些材料, 可能会用氧化铈,氧化铬, 氧化 镁或氧化铁作为研磨介质, 但使用的不很普遍。除 了金刚石外,这些研磨介质 通常都以去离子水悬浮 液的形式提供,但如果被抛光的材料是那种与水不 亲和的材料时,可能需要使用其它的例如己二酸乙 二醇,酒精, 煤油,甘油悬浮液。金刚石研磨介质 使用的载基剂应严格按照赋耘厂家推荐选择。赋耘金刚石多晶悬浮液使 用的是多晶体形式的人工合成金刚石。单晶体形式的人工合成金刚石与多晶体形式的人 工合成金刚石外形区别。 研究结果显示, 对许多 材料来说,多晶体形式的人工合成金刚石要比单晶 体形式的人工合成金刚石的切削效率高。
机械抛光可以采用相对简单的系统,使不同的设备达到高度自动抛光的程度,相对应的有微型计算机或微处理器控制的设备,设备的能力各不相同,从支持单个试样的设备到支持六个试样的设备,甚至更多试样的设备都可用于研磨和抛光步骤。配合金相砂纸和抛光布,一般研磨3道,抛光2道,同时可以进行6个样品测试,对于样品比较单一的产品,可以采用这种方式,提高工作效率。多数情况下,电解抛光指导中,告诉用户将试样表面先准备到600粒度砂纸然后电解抛光1到2分钟。然而,600(P1200)粒度砂纸后的损伤深度可能达到几个微米,但电解抛光液每分钟能去掉约1pm的深度。这样,变形损伤可能去除不完全。通常,电解抛光表面是波状的不是平面,在高倍显微镜下聚焦很困难。 印刷线路板用哪种金相抛光布比较好?
铁基材料及其合金的制备 应采用现 代的试样制备方法。这对边缘保护 及夹杂物的鉴定来讲, 非常理想, 尤 其当全自动制样设备使用时的效果 为明显。 随后推荐的制备程序适用于大多数的铁基材 料及其合金这样的试样制备方法对铸铁,包括石墨铸 铁在内均适用。 打磨可以打三到四道,240# ,800# ,1500# ,2000#,抛光可以抛光两道,一个粗抛一个精抛,粗抛用呢绒,精抛光用阻尼布,由于含有大 量硅及潜在的污染, 所以在 终的抛光过程中 使用氧化铝悬浮液进行抛光。钛及钛合金用什么抛光布抛光比较好?浙江工具钢金相抛光布代理加盟
陶瓷材料用哪种金相抛光布比较好?浙江工具钢金相抛光布代理加盟
钴和钴合金要比镍和镍合金难制备。钴是一种非常硬的金属,六方密排晶格结构,由于机械孪晶而敏感于变形损伤。研磨和抛光速率比镍、铜或铁都要低。钴和钴合金的制备类似难熔金属。与其它金属和合金相比,虽然钴是六方密排晶格结构,但交叉偏振光不是非常有用的检查方法难获得理想的无划痕或和变形缺陷的表面,一个与抛光步骤相同研磨介质的短时间的震动抛光将有很大帮助。氧化铝配精抛光布阻尼布对较纯的镍的效果要比硅胶好的多。钴和钴合金要比镍和镍合金难制备。钴是一种非常硬的金属,六方密排晶格结构,由于机械孪晶而敏感于变形损伤。研磨和抛光速率比镍、铜或铁都要低。钴和钴合金的制备类似难熔金属。与其它金属和合金相比,虽然钴是六方密排晶格结构,但交叉偏振光不是非常有用的检查方法。下面介绍的是钴和钴合金的制备方法,也许需要两步的SiC砂纸将试样磨平。如果切割表面质量较好,就从320(P400)粒度砂纸开始。钴和钴合金要比钢难切不是因为硬度高。 浙江工具钢金相抛光布代理加盟
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