4.4.3~4.4.6控制设备噪声首先要从声源上考虑,设计时应选用低噪声设备。在某些情况下,由于技术或经济上的原因而难以做到时,则应从噪声传播途径上采取降噪措施,如把高噪声工艺设备迁出洁净室或隔离布置于隔声间内。有些由于与生产联系密切,必须置于洁净区内的高噪声设备,亦可采用隔声罩隔绝噪声。国内现有洁净厂房中,不少洁净室将机械泵一类高噪声设备置于洁净室外套间或技术夹道内,洁净室内噪声有明显降低。洁净室的静态噪声主要来源于净化空调系统和局部净化设备运行噪声,静态噪声的大小与洁净室气流流型、换气次数等因素有关。但关键在于净化空调系统的布置及合理的降噪措施,不合理的设计方案必然导致较高的静态噪声。正压洁净室联锁程序应先启动送风机,再启动回风机和排风机。半导体净化车间洁净室检测值得推荐
6.1.1洁净厂房的建筑平面和空间布局,应根据电子产品发展以及生产工艺改造和扩大生产规模的要求确定。6.1.2洁净厂房的主体结构宜采用大空间及大跨度柱网,不应采用内墙承重体系。6.1.3洁净厂房的立面设计应简洁、明快,并应适应洁净室(区)的布置要求。洁净厂房围护结构的材料选型应满足保温、隔热、防火、防潮、少产尘、易清洁等要求。6.1.4洁净厂房主体结构的耐久性应与电子产品生产线设备、生产环境控制设施协调,并应具有防火、控制温度变形和不均匀沉陷性能。厂房变形缝不宜穿越洁净区。6.1.5设有上技术夹层、下技术夹层的洁净厂房的建筑平面、空间布局和构造,应满足产品生产工艺、自动化运输和公用动力设施安装和维修的要求。半导体净化车间洁净室检测值得推荐应按输送介质的物化性质,合理确定管内物料流速和管径。
15.3.2有微振动控制要求的洁净室(区),其建筑结构的微振动控制设计,应符合下列规定:1建筑物基础宜置于动力性能良好的地基土上,且基础应有足够刚度;2应设置**的建筑结构微振动控制体系,并应与厂房主体结构分隔;3主体结构应根据微振动控制的要求,适当加大梁、柱、墙、基础等截面尺寸。15.3.3有强烈振动的设备和管道,宜采取主动隔振措施,并应符合下列要求.1宜采用隔振台(座);2应选用刚度适当的隔振器,3通往洁净室(区)的管道,宜采取隔振支(吊)架、柔性连接等隔振措施。
6.3.4洁净厂房技术夹层的墙壁和顶棚应满足使用功能要求,且表面应平整、光滑。位于地下的技术层或技术夹层应采取防水或防潮、防霉措施。6.3.5当洁净厂房设置外窗时,应采用双层固定窗,并应有良好的气密性,同时应采取防结露措施。6.3.6洁净室(区)门窗、墙壁、顶棚、地面、楼面的设计应符合下列要求:1应满足使用功能的要求,构造和施工缝隙应采取密闭措施;2顶棚以上的技术层或技术夹层宜设检修通道,3洁净室(区)不宜设窗台;4当地面采用活动地板时,活动地板材质和支撑方式应根据电子产品生产工艺要求选择。6.3.7用于电子产品生产的洁净室(区)的墙板和顶棚,宜采用轻质壁板构造。负压洁净室联锁程序应与上述正压洁净室相反。
随着生产工艺对纯水水质的不断提高,甚至到了理论纯水的程度,尤其是集成电路的发展不但对水中电解质的含量要求极其严格,而且对细菌、微粒、有机物及溶解氧等都有极其严格的要求;医药工业中要求供应的注射用水,对水中含菌量、热源均有严格要求。除了严格的纯水制造过程外,纯水输送管道的管材选择和管网设计是保证使用点水质的关键。实践证明,采用循环供水方式是行之有效的。主要是基于保证输水管道内的流速和尽量减少不循环段的死水区,以减少纯水在管道内的停留时间,减少管道材料微量溶出物(即使目前质量比较好的管道也会有微量物质溶出)对超纯水水质的影响,同时,基于流水不腐的道理,高的流速也可以防止细菌微生物的滋生。非单向流洁净室中都有涡流存在,不适宜用于高洁净度的洁净室中,宜用于6~9级的洁净室中。半导体净化车间洁净室检测值得推荐
洁净室(区)内工业管道不应穿越无关的房间。半导体净化车间洁净室检测值得推荐
7.1.1洁净厂房内各洁净室(区)的空气洁净度等级,应根据电子产品生产工艺特点和洁净室型式确定。7.1.2气流流型应根据各洁净室(区)空气洁净度等级和电子产品工艺特点的不同要求选用。7.1.3有下列情况之一者,净化空调系统宜分开设置:1运行班次或使用时间不同;2生产过程中散发的物质对其他工序、设备交叉污染,对产品质量或操作人员健康、安全有影响;3对温、湿度控制要求差别大;4洁净室(区)内工艺设备发热相差悬殊;5净化空调系统与一般空调系统,6系统风量过大的净化空调系统。半导体净化车间洁净室检测值得推荐