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氮化铝化铝陶瓷是以氮化铝（AlN）为主晶相的陶瓷，氮化铝晶体以四面体为结构单元共价键化合物，具有纤锌矿型结构，属六方晶系。化学组成Al（65.81%）、N（34.19%），比重3.261g/cm3，白色或灰白色，单晶无色透明，常压下的升华分解温度为2450°C，为一种高温耐热材料。热膨胀系数（4.0-6.0）*10-6/℃。多晶氮化铝热导率达260W/（m.k），比氧化铝高5-8倍，所以耐热冲击好，能耐2200℃的高温。此外，氮化铝具有不受铝液和其它熔融金属及砷化镓侵蚀的特性，特别是对熔融铝液具有极好的耐侵蚀性。氮化铝陶瓷有很多优良特性，但是其难加工属性限制了氮化铝陶瓷的发挥。氮化铝陶瓷用普通CNC不能很好的加工，主要是因为氮化铝陶瓷材料较硬，普通CNC不适合加工硬度过高的材料，并且机床内部的精密零件也容易受到陶瓷粉末的侵蚀，加工氮化铝陶瓷可以用鑫腾辉陶瓷CNC，刚性强，防护等级高，专门加工氮化铝陶瓷等特种陶瓷材料。氮化铝的热导率主要由晶体缺陷和声子自身对声子散射控制。舟山球形氧化铝商家

直接覆铜陶瓷基板是基于氧化铝陶瓷基板的一种金属化技术，利用铜的含氧共晶液直接将铜敷接在陶瓷上，在铜与陶瓷之间存在很薄的过渡层。由于ＡｌＮ陶瓷对铜几乎没有浸润性能，所以在敷接前必须要对其表面进行氧化处理。由于ＤＢＣ基板的界面靠很薄的一层共晶层粘接，实际生产中很难控制界面层的状态，导致界面出现空洞。界面孔洞率不易控制，在承受大电流时，界面空洞周围会产生较大的热应力，导致陶瓷开裂失效，因此还有必要进行相关基础理论研究和工艺条件的优化。活性金属钎焊陶瓷基板是利用钎料中含有的少量活性元素，与陶瓷反应形成界面反应层，实现陶瓷金属化的一种方法。活性钎焊时，通过钎料的润湿性和界面反应可使陶瓷和金属形成致密的界面，但残余热应力大是陶瓷金属化中普遍存在的问题。纳米氮化硼厂家直销氮化铝陶瓷具有高热导率、好的抗热冲击性、高温下依然拥有良好的力学性能。

氮化铝（AlN）具有高导热、绝缘、低膨胀、无磁等优异性能，是半导体、电真空等领域装备的关键材料，特别是在航空航天、轨道交通、新能源汽车、高功率LED、5G通讯、电力传输、工业控制等领域功率器件中具有不可取代的作用。目前用于制备复杂形状AlN陶瓷零部件的精密制备技术主要有模压成型、注射成型、凝胶注模成型，它们均为有模制造技术。此外，陶瓷3D打印成型也可实现AlN陶瓷零部件的精密制造，但该方法用于氮化铝陶瓷成型方面的研究较少，实际应用还有待于进一步的研究，故不在的讨论范围之内。

氮化铝在取向硅钢二次再结晶中的作用：二次再结晶在取向钢的制造过程中不可缺少，它是在钢铁材料的方向性方面发生的现象。可以这样形容，在几乎无方向性的基体中，一粒沙子在一瞬间长大成1立方米大的岩石，其结晶方位大约可达到95％的取向度。在此期问，为了抑制基体的长大，普通的高斯法中，采用MnS、RG和RGH钢中则利用的是MnSe、Sb，而这里将谈谈AIN。关于二次再结晶的机理已有很多文献介绍，这里就A1N的特殊性进行描述。HiB钢热轧材中的A1N必须是固溶态或极细小的AIN。具有(100)[001]方位的立方体织构钢，可以通过对含A1热轧板进行交叉冷轧得到，这时该钢种具有以下三个重要的特征。AlN很好是1微米左右粗大尺寸，为此，热轧时板坯加热温度低好，热轧板的高温退火对AIN的粗大化有利。采用交叉热轧，虽然可以进一步提高产生(100)面的机率，但随着C量的增加，(100)[001]方位即45度立方体的混合比例将增加。氮化铝膜是指用气相沉积、液相沉积、表面转化或其它表面技术制备的氮化铝覆盖层。

薄膜法是通过真空镀膜技术在AlN基板表面实现金属化。通常采用的真空镀膜技术有离子镀、真空蒸镀、溅射镀膜等。但金属和陶瓷是两种物理化学性质完全不同的材料，直接在陶瓷基板表面进行金属化得到的金属化层的附着力不高，并且陶瓷基板与金属的热膨胀系数不匹配，在工作时会受到较大的热应力。为了提高金属化层的附着力和减小陶瓷与金属的热应力，陶瓷基板一般采用多层金属结构。直接覆铜法(DBC)是一种基于陶瓷基板发展起来的陶瓷表面金属化方法，基本原理是：在弱氧化环境中，与陶瓷表面连接的金属铜表面会被氧化形成一层Cu[O]共晶液相，该液相对互相接触的金属铜和陶瓷基板表面都具有良好润湿效果，并在界面处形成CuAlO2等化合物使金属铜能够牢固的敖接在陶瓷表面，实现陶瓷表面的金属化。而AlN基板具有较强的共价键，金属铜直接覆着在其表面的附着力不高，因此必须进行预处理来改善其与Cu的附着力。一般先对其表面进行氧化，生成一层薄Al2O3，通过该氧化层来实现与金属铜的连接。氮化铝具有不受铝液和其它熔融金属及砷化镓侵蚀的特性，特别是对熔融铝液具有极好的耐侵蚀性。嘉兴超细氮化铝粉体商家

大多数氮化铝膜为多晶，但已在蓝宝石基材上成功地外延生长制成单晶氮化铝膜。舟山球形氧化铝商家

氮化铝基板材料热膨胀系数（4.6×10-6/K）与SiC芯片热膨胀系数（4.5×10-6/K）相近，导热率系数大（170-230W/m▪K），绝缘性能优异，可以适应SiC的应用要求，是搭载SiC半导体的理想基板材料。以往，氮化铝基板主要通过如下工艺制备：在氮化铝粉末中混合煅烧助剂、粘合剂、增塑剂、分散介质、脱模机等添加剂，通过挤出成型在空气中或氮等非氧化性气氛中加热到350-700℃而将粘合剂去除后（脱脂），在1800-1900℃的氮等非氧化性气氛中保持0.5-10小时的（煅烧）。该法制备氮化铝基板的缺陷：通过上述工艺制备出来的氮化铝基板材料，其击穿电压在室温下显示为30-40kV/mm左右的高绝缘性，但在400℃的高温下则降低到10kV/mm左右。在高温下具备优异绝缘特性的氮化铝基板的制备方法。通过该法可制备出耐高温氮化铝基板材料具有如下特点：氮化铝晶粒平均大小为2-5μm；热导率为170W/m▪K以上；不含枝状晶界相；在400℃下的击穿电压为30kV/mm以上。舟山球形氧化铝商家