东莞金属离子氮化对比

离子氮化法具有以下一些优点：由于离子氮化是在真空中进行，因而可获得无氧化的加工表面，也不会损害被处理工件的表面光洁度。而且由于是在低温下进行处理，被处理工件的变形量极小，处理后无需再行加工，极适合于成品的处理。通过调节氮、氢及其他（如碳、氧、硫等）气氛的比例，可自由地调节化合物层的相组成，从而获得预期的机械性能。离子氮化从380℃起即可进行氮化处理，此外，对钛等特殊材料也可在850℃的高温下进行氮化处理，因而适应范围十分广。由于离子氮化是在低气压下以离子注入的方式进行，因而耗气量极少（只为气体渗氮的百分之几），可降低耗能。离子氮化是利用辉光放电原理进行的一种化学热处理,故又称辉光离子氮化,也有称离子轰击氮化。东莞金属离子氮化对比

离子氮化法的优点二：离子氮化是在真空中进行，因而可获得无氧化的加工表面，也不会损害被处理工件的表面光洁度。而且由于是在低温下进行处理，被处理工件的变形量极小，处理后无需再行加工。通过控制气氛，可调节化合物层的相结构，化合物层的脆性明显低于气体氮化的脆性，离子氮化为工件的还有就是一道工序。离子氮化从380℃起即可进行氮化处理，此外，对钛、钛合金等特殊材料也可在850℃的高温下进行氮化处理，因而适应范围十分广。离子氮化是在低气压下以离子注入的方式进行，因而耗气量极少（只为气体渗氮的百分之几），可降低处理成本。东莞真空离子氮化价格咨询离子氮化不污染空气,气体耗量小,质量稳定,可以实现自动控制,已获得了广泛应用。

   离子氮化工艺技术的优点：工件涂层可根据预期性能要求通过调节氮、氢及其他(如碳、氧、硫等)气氛的比例调整实现相组成调节。制备涂层时间是普通渗氮的三分之一到五分之一，效率高。制备过程十分清洁而无需防止公害，无需额外加热和检测设备，能够获得均匀的温度分布，能源消耗是气体渗氮的40~70%，节能环保；耗气量极少(只为气体渗氮的百分之几),可减少离子氮化的常见缺陷；适用的材质和温度范围广。工件制备完涂层后可获得无氧化的加工表面，表面光洁度高，变形量小。离子氮化工艺技术的难点：空心阴极效应限制了在带小孔、间隙和沟槽零件中的应用：边角效应导致导致工件边角部位硬度和其余部位不一致：不同结构工件混装时温度的控制和测量存在困难：零件表面产生弧光放电（打弧）造成等离子不稳定或高洁净工件表面损伤。

  离子氮化的常见缺陷:硬度偏低生产实践中，工件氮化后其表面硬度有时达不到工艺规定的要求，轻者可以返工，重者则造成报废。造成硬度偏低的原因是多方面的:有设备方面的原因，如系统漏气造成氧化;有选材方面的原因，如材料选择不恰当;有前期热处理方面的原因，如基本硬度太低，表面脱碳等;有工艺方面的原因，如氮化温度过高或过低，时间短或氮势不足而造成渗层太薄笔笔。只有根据具体情况，找准原因，问题才会得以解决。硬度和渗层不均匀装炉方式不当，气压调节不当(如供气量过大)，温度不均，小孔、窄缝未屏蔽造成局面过热等均会造成硬度和渗层不均匀。变形超差变形是难以杜绝的，对易变形件，采取以下措施，有利干减小变形。氧化前应进行稳定化处理(处理次数可以是几次)直至将氮化前的变形量控制在很小的范围内(一般不应超过氮化后允许变形量的50%);氧化过程中的升、降温速度应缓慢;保温阶段尽量使工件各处的温度均匀一致。对变形要求严格的工件，如果工艺许可，尽可能采用较低的氢化温度。离子氮化处理加工工艺。

随着电子工业的快速发展，对材料性能的要求不断提高，离子氮化在该领域逐渐展现出应用潜力。对于电子设备的金属外壳，离子氮化可提高其表面硬度和耐磨性，防止外壳在日常使用中被划伤，同时改善金属的电磁屏蔽性能，减少电子设备内部信号干扰。在一些电子元器件的制造中，如散热器，离子氮化处理可增强其表面的散热性能，因为氮化层具有良好的热传导性。此外，对于与电路板连接的金属引脚，离子氮化能提高其焊接性能和耐腐蚀性，保障电子设备的可靠性和稳定性，为电子工业产品性能的提升开辟了新途径。离子氮化使用手册介绍。东莞真空离子氮化商家

离子化学热处理是一类正在发展并且日益受到重视的表面强化工艺。东莞金属离子氮化对比

离子氮化是由德国人B.Berghaus于1932年发明的。该法是在0.1～10Torr（Torr=133.3Pa）的含氮气氛中，以炉体为阳极，被处理工件为阴极，在阴阳极间加上数百伏的直流电压，由于辉光放电现象便会产生象霓红灯一样的柔光覆盖在被处理工件的表面。此时，已离子化了的气体成分被电场加速，撞击被处理工件表面而使其加热。同时依靠溅射及离子化作用等进行氮化处理。离子氮化法与以往的靠分解氨气或使用物来进行氮化的方法截然不同，作为一种全新的氮化方法，现已被广泛应用于汽车、机械、精密仪器、挤压成型机、模具等许多领域，而且其应用范围仍在日益扩大。东莞金属离子氮化对比