深冷空分制氮是一种传统的制氮方法,已有近几十年的历史。它是以空气为原料,经过压缩、净化,再利用热交换使空气液化成为液空。液空主要是液氧和液氮的混合物,利用液氧和液氮的沸点不同(在1大气压下,前者的沸点为-183℃,后者的为-196℃),通过液空的精馏,使它们分离来获得氮气。深冷空分制氮设备复杂、占地面积大,基建费用较高,设备一次性投资较多,运行成本较高,产气慢(12~24h),安装要求高、周期较长。综合设备、安装及基建诸因素,3500Nm3/h以下的设备,相同规格的PSA装置的投资规模要比深冷空分装置低20%~50%。深冷空分制氮装置宜于大规模工业制氮,而中、小规模制氮就显得不经济。以空气为原料,以碳分子筛作为吸附剂,运用变压吸附原理,利用碳分子筛对氧和氮的选择性吸附而使氮和氧分离的方法,通称PSA制氮。此法是七十年代迅速发展起来的一种新的制氮技术。与传统制氮法相比,它具有工艺流程简单、自动化程度高、产气快(15~30分钟)、能耗低,产品纯度可在较大范围内根据用户需要进行调节,操作维护方便、运行成本较低、装置适应性较强等特点日本东宇机电为您提供制氮机,欢迎新老客户来电!实验室制氮机系统

日本东宇-以积极的态度实现地球友善、地球环保、永续经营,的企业理念。 东宇是专门的氮气发生器(制氮机)供应商,拥有30年丰富经验的销售及专业的售后支持团队。 东宇产品研发的理念皆以如何更加节能,地球友善的发想开始,开发新的技术,节能、模组的多样,同时在中国、日本取得,工厂并拥有ISO9001认证。 东宇的制造工厂在拥有深厚历史文化底蕴,传承着工匠精神的日本京都制造。 30年来专注于做好一项产品-变压吸附式PSA制氮机。 拥有齐全的氮气发生器产品线, 从较小500cc~较大3000m3,99.9995%以上可供选择。 全球已有超过4000台以上的实绩,中国已经销售超过800台以上的实绩。进口热处理制氮机保养日本东宇机电是一家专业提供制氮机的公司,有想法的不要错过哦!

是指气体中的水份从未饱和水蒸气变成饱和水蒸气的温度,当未饱和水蒸气变成饱和水蒸气时,有极细的露珠出现,出现露珠时的温度叫做“温度”。温度和压力有关,因此又有大气压温度(常压温度)和压力下温度之分。大气压温度是指在大气压力下水份的凝结温度,而压力下温度是指该压力下的水份凝结温度,两者有换算关系(可查换算表),如压力0.7Mpa时压力温度为5℃,则相应的大气压(0.101Mpa)温度则为-20℃。在气体行业中,若无特殊说明,所指的温度均为大气压温度。 汽化是指物质由液态变成气体的过程,其包括蒸发和沸腾。凝结是指气体变成液体的过程。
制氮机主要分类2:分子筛空分制氮 以空气为原料,以碳分子筛作为吸附剂,运用变压吸附原理,利用碳分子筛对氧和氮的选择性吸附而使氮和氧分离的方法,通称PSA制氮。此法是七十年代迅速发展起来的一种新的制氮技术。与传统制氮法相比,它具有工艺流程简单、自动化程度高、产气快(15~30分钟)、能耗低,产品纯度可在较大范围内根据用户需要进行调节,操作维护方便、运行成本较低、装置适应性较强等特点,故在1000Nm3/h以下制氮设备中颇具竞争力,越来越得到中、小型氮气用户的欢迎,PSA制氮已成为中、小型氮气用户的方法。制氮机,就选日本东宇机电,让您满意,欢迎您的来电!

制氮机工作原理:PSA变压吸附制氮原理 碳分子筛可以同时吸附空气中的氧和氮,其吸附量也随着压力的升高而升高,而且在同一压力下氧和氮的平衡吸附量无明显的差异。因而,凭压力的变化很难完成氧和氮的有效分离。如果进一步考虑吸附速度的话,就能将氧和氮的吸附特性有效地区分开来。氧分子直径比氮分子小,因而扩散速度比氮快数百倍,故碳分子筛吸附氧的速度也很快,吸附约1分钟就达到90%以上;而此时氮的吸附量有5%左右,所以此时吸附的大体上都是氧气,而剩下的大体上都是氮气。这样,如果将吸附时间控制在1分钟以内的话,就可以将氧和氮初步分离开来,也就是说,吸附和解吸是靠压力差来实现的,压力升高时吸附,压力下降时解吸。而区分氧和氮是靠两者被吸附的速度差,通过控制吸附时间来实现的,将时间控制的很短,氧已充分吸附,而氮还未来得及吸附,就停止了吸附过程。因而变压吸附制氮要有压力的变化,也要将时间控制在1分钟以内日本东宇机电致力于提供制氮机,有需要可以联系我司哦!日本SMT制氮机售后服务
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制氮机有什么特点? 1、低,产品气≤ - 45℃,保证焊接质量; 2、氮气纯度可在99.99%~99.999%之间自由调节; 3、标准型,简单增容,如需增加制氮量,只需并联多台制氮机即可; 4、制氮效率高,压缩空气能耗低,节能,每立方米氮气能耗约0.42度; 5、可加装边框,使外观整洁美观,便于清洁管理,满足电子行业高清清洁要求。 四、使用氮气有哪些要求? 1、无保护膜或电路板焊接铜垫,存放时间长或可靠性高者优先; 2、焊接昂贵的集成电路元件、小体积元件、细间距元件、倒装芯片和不可修复元件时; 3、使用高温锡膏或低固含量、低活性锡膏时; 4、OPS涂层PCB多次回流时,或OPS涂层PCB多次回流时。实验室制氮机系统