二极管是电子电路中实现单向导电的关键元件,如同电路的“单向阀门”,在整流、稳压、开关等场景中扮演关键角色。其关键由PN结构成,通过控制电流单向流动实现功能,按材料可分为硅二极管(耐压高、稳定性强,导通电压0.6-0.7V)和锗二极管(导通电压低至0.2-0.3V,适合高频小信号);按结构分为点接触型(高频小电流,如收音机检波)、面接触型(低频大电流,如电源整流)和平面型(集成工艺,适配数字电路)。
从用途看,整流二极管可将交流电转为直流电,常见于充电器;稳压二极管利用反向击穿特性稳定电压,是电源电路的“安全卫士”;开关二极管凭借纳秒级响应速度,成为5G通信和智能设备的信号切换关键;肖特基二极管以0.3V极低压降,在新能源汽车快充中大幅提升效率;发光二极管(LED)则将电能转化为光能,覆盖照明、显示等场景。
随着技术革新,碳化硅二极管突破传统材料极限,耐高压、耐高温特性适配光伏逆变器等严苛环境;TVS瞬态抑制二极管更能在1ns内响应浪涌冲击,为智能设备抵御静电威胁。从消费电子到工业制造,二极管以多元形态和可靠性能,持续赋能电子世界的每一次创新。 光敏二极管将光信号转电信号,用于光电检测与通信。闵行区TVS瞬态抑制二极管
瞬态抑制二极管(TVS)和 ESD 保护二极管为电路抵御过压威胁。TVS 二极管(如 SMBJ6.8A)在 1ns 内响应浪涌,将电压箝制在 10V 以下,承受 5000W 脉冲功率,保护手机 USB-C 接口免受 20kV 静电冲击。汽车电子中,双向 TVS 阵列(如 SPA05-1UTG)在 CAN 总线中抑制发动机点火产生的瞬态干扰(峰值电压 ±40V),误码率降低至 10⁻⁹。工业设备的 485 通信接口,串联磁珠与 TVS 二极管后,可通过 IEC 61000-4-5 浪涌测试(4kV/2Ω),保障生产线数据传输稳定。保护二极管如同电路的 “安全气囊”,在电压突变瞬间启动防护,避免元件损坏。顺德区晶振二极管哪里有卖的打印机的电路中,二极管协助完成信号传输与电源管理等工作 。
1958 年,德州仪器工程师基尔比完成历史性实验:将锗二极管、电阻和电容集成在 0.8cm² 锗片上,制成首块集成电路(IC),虽 能实现简单振荡功能,却证明 “元件微缩化” 的可行性。1963 年,仙童半导体推出双极型集成电路,创新性地将肖特基二极管与晶体管集成 —— 肖特基二极管通过钳位晶体管的饱和电压(从 0.7V 降至 0.3V),使逻辑门延迟从 100ns 缩短至 10ns,为 IBM 360 计算机的高速运算奠定基础。1971 年,Intel 4004 微处理器采用 PMOS 工艺,集成 2250 个二极管级元件(含 ESD 保护二极管),时钟频率达 108kHz,标志着个人计算机时代的开端。 进入 21 世纪,先进制程重塑二极管形态:在 7nm 工艺中,ESD 保护二极管的寄生电容 0.1pF,响应速度达皮秒级,可承受 15kV 静电冲击
1907 年,英国科学家史密斯发现碳化硅晶体的电致发光现象,虽亮度 0.1mcd(烛光 / 平方米),却埋下 LED 的种子。1962 年,通用电气工程师霍洛尼亚克发明首只红光 LED(GaAsP),光效 1lm/W,主要用于仪器面板指示灯;1972 年,惠普推出绿光 LED(GaP),光效提升至 10lm/W,使七段数码管显示成为可能,计算器与电子表从此拥有清晰读数。1993 年,中村修二突破氮化镓外延技术,蓝光 LED(InGaN)光效达 20lm/W,与红绿光组合实现全彩显示 —— 这一突破使 LED 从 “指示灯” 升级为 “光源”,2014 年中村因此获诺贝尔奖。 21 世纪,LED 进入爆发期:2006 年,白光 LED(荧光粉转换)光效突破 100lm/W,替代白炽灯成为主流照明;2017 年,Micro-LED 技术将二极管尺寸缩小至 10μm,像素密度达 5000PPI碳化硅二极管凭借高耐压、耐高温特性,在光伏逆变器中大幅提升能量转换效率,降低系统损耗。
二极管基础的用途是整流 —— 将交流电转换为直流电。硅整流二极管(如 1N4007)通过面接触型 PN 结实现大电流导通,其 1000V 耐压和 1A 电流承载能力,多样用于家电电源适配器。在开关电源中,快恢复二极管(FRD)以 50ns 反向恢复时间,在 400kHz 频率下实现高效整流,较传统工频整流效率提升 30%。工业场景中,高压硅堆(如 6kV/50A)由数十个二极管串联而成,用于变频器和电焊机,可承受 20 倍额定电流的浪涌冲击,保障工业设备稳定供电。整流二极管的存在,让电网的交流电得以转化为电子设备所需的直流电,成为电力转换的基础元件。智能手表的显示屏和电路中,二极管助力实现各种便捷功能。闵行区TVS瞬态抑制二极管
发光二极管电光转换高效,点亮照明与显示领域。闵行区TVS瞬态抑制二极管
PN 结是二极管的结构,其单向导电性源于载流子的扩散与漂移运动。当 P 型(空穴多)与 N 型(电子多)半导体结合时,交界处形成内建电场(约 0.7V 硅材料),阻止载流子进一步扩散。正向导通时(P 接正、N 接负),外电场削弱内建电场,空穴与电子大量穿越结区,形成低阻通路,硅管正向压降约 0.7V,电流与电压呈指数关系(I=I S(e V/V T−1),VT≈26mV)。反向截止时(P 接负、N 接正),外电场增强内建电场,少数载流子(P 区电子、N 区空穴)形成漏电流(硅管<1μA),直至反向电压达击穿阈值(如 1N4007 耐压 1000V)。此特性使 PN 结成为整流、开关等应用的基础,例如 1N4148 开关二极管利用 PN 结电容充放电,实现 4ns 级快速切换。闵行区TVS瞬态抑制二极管
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