稳压二极管的工作基础是齐纳击穿效应,主要用于反向偏置时的电压稳定。当反向电压达到特定值(齐纳电压),内建电场强度足以直接拉断半导体共价键,产生大量电子 - 空穴对,形成稳定的击穿电流。与通过碰撞电离引发的雪崩击穿不同,齐纳击穿通常发生在较低电压(小于 5V),且具有负温度系数(如电压随温度升高而降低)。通过串联限流电阻控制电流在安全范围(通常 5-50 毫安),可使输出电压稳定在齐纳电压附近。例如 TL431 可调基准源,通过外接电阻分压,能在 2.5-36V 范围内提供高精度稳定电压,温漂极低,常用于精密电源和电池保护电路。瞬态电压抑制二极管能迅速响应瞬态过压,像坚固的盾牌一样保护电路免受高压冲击。江苏二极管诚信合作
航空航天领域对电子元器件的性能、可靠性与稳定性有着极为严苛的要求,二极管作为基础元件,其发展前景同样广阔。在飞行器的电子控制系统中,耐高温、抗辐射的二极管用于保障系统在极端环境下的正常运行;在卫星通信系统中,高频、低噪声二极管用于信号的接收与发射,确保卫星与地面站之间的稳定通信。随着航空航天技术不断突破,如新型飞行器的研发、深空探测任务的推进,对高性能二极管的需求将持续增加,促使企业加大研发投入,开发出更适应航空航天复杂环境的二极管产品。江苏二极管诚信合作PIN 二极管的本征层设计,使其在微波控制等领域展现出独特优势。
插件封装(THT):传统工艺的坚守 DO-41 封装的 1N4007(1A/1000V)引脚间距 2.54mm,适合手工焊接与维修,在工业设备中仍应用,其玻璃钝化工艺确保在高湿度环境下漏电流<1μA。轴向封装的高压硅堆(如 2CL200kV/10mA)采用陶瓷绝缘外壳,耐压达 200kV,用于阴极射线管(CRT)显示器的高压供电。 表面贴装(SMT):自动化生产的主流 SOD-123 封装的肖特基二极管(SS34)体积较 DO-41 缩小 70%,焊盘间距 1.27mm,适合 PCB 高密度布局,在智能手机主板中每平方厘米可集成 10 个以上,用于电池保护电路。QFN 封装(如 DFN1006)的 ESD 保护二极管,寄生电感<0.5nH,在 USB 4.0 接口中支持 40Gbps 数据传输,信号衰减<1dB。
肖特基二极管基于金属与半导体接触形成的势垒效应,而非传统 PN 结结构。当金属(如铝、金)与 N 型半导体(如硅)接触时,会形成一层极薄的电子阻挡层。正向偏置时,电子通过量子隧道效应穿越势垒,导通压降 0.3-0.5V(低于硅 PN 结的 0.7V),例如 MBR20100 肖特基二极管在服务器电源中可提升 3% 效率。反向偏置时,势垒阻止电子回流,漏电流极小(硅基通常小于 10 微安)。其优势在于无少子存储效应,开关速度可达纳秒级,适合高频整流(如 1MHz 开关电源),但耐压通常低于 200V,需通过边缘电场优化技术提升反向耐压能力。手机充电器中的整流二极管,将市电转化为适合手机充电的直流电。
PN 结是二极管的结构,其单向导电性源于载流子的扩散与漂移运动。当 P 型(空穴多)与 N 型(电子多)半导体结合时,交界处形成内建电场(约 0.7V 硅材料),阻止载流子进一步扩散。正向导通时(P 接正、N 接负),外电场削弱内建电场,空穴与电子大量穿越结区,形成低阻通路,硅管正向压降约 0.7V,电流与电压呈指数关系(I=I S(e V/V T−1),VT≈26mV)。反向截止时(P 接负、N 接正),外电场增强内建电场,少数载流子(P 区电子、N 区空穴)形成漏电流(硅管<1μA),直至反向电压达击穿阈值(如 1N4007 耐压 1000V)。此特性使 PN 结成为整流、开关等应用的基础,例如 1N4148 开关二极管利用 PN 结电容充放电,实现 4ns 级快速切换。有机发光二极管柔韧性好,为可折叠、可弯曲的显示设备带来无限可能。江苏二极管诚信合作
快恢复二极管拥有极短的反向恢复时间,在高频电路里快速切换,让电流传输高效又稳定。江苏二极管诚信合作
雪崩二极管通过雪崩击穿效应产生纳秒级脉冲,适用于雷达和激光触发等场景。当反向电压超过击穿阈值时,载流子在强电场中高速运动,碰撞电离产生连锁反应,形成急剧增长的雪崩电流。这一过程可在 10 纳秒内产生陡峭的脉冲前沿,例如 2N690 雪崩二极管在 50V 偏置下,能输出宽度小于 5 纳秒、幅度超过 20V 的脉冲,用于激光雷达的时间同步触发。通过优化结区掺杂分布(如缓变结设计),可控制雪崩击穿的均匀性,降低脉冲抖动(小于 1 纳秒),提升测距精度。江苏二极管诚信合作