EDI超纯水设备的净水基本过程:(1)连续运行,产品水水质稳定(2)容易实现全自动控制(3)无须用酸碱再生(4)不会因再生而停机,节省了再生用水及再生污水处理设施(5)产水率高(可达95%)。EDI装置属于精处理水系统,一般多与反渗透(RO)配合使用,组成预处理、反渗透、EDI装置的超纯水处理系统,取代了传统水处理工艺的混合离子交换设备。EDI装置进水要求为电阻率为0.025-0.5Ω·cm,反渗透装置完全可以满足要求。EDI装置可生产电阻率高达15MΩ·cm以上的超纯水。对于高纯水系统,无论从产水质量、性能和操作等方面考虑,还是从运行费用和环保等方面考虑,反渗透+EDI工艺都是一个理想的选择。 磷酸铁锂新材料超纯水设备生产厂家。建湖超纯水设备价格多少
半导体芯片超纯水设备。半导体芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷却用水,基板晶圆片检测清洗用水,中段晶圆片溅镀、曝光、电镀、光刻、腐蚀等工艺清洗,后段检测封装清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生长用水,中段主要在曝光、显影、去光阻清洗用水,后段检测封装用水。同时,半导体行业对TOC的要求较高。设备优点:采用反渗透作为预处理再配上离子交换其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还有一定破坏性。 工业超纯水设备问题购买大型工厂超纯水设备找苏州硕科环保工程设备。
工业edi超纯水设备的特点以某水处理厂家的工业edi超纯水设备为例进行说明。1、稳压范围宽,输入电压变动±20%仍可正常使用。2、效率高,产品具有功率因素校正电路,功率因数可达0.98以上。3、输出电压电流无级连续可调,稳压稳流自动切换。4、负载由小至大的稳流变化小于0.1%。5、安全性能高,输出端可任意短接不会造成机器损坏,且短接电流可连续调整。6、采用先进的高频脉宽调制技术,具有稳定度强、精度高,体积小、重量轻、功耗低等特点。
光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水,镀膜玻璃镜片清洗超纯水设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+SMB除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量(外观和精度)的重要工序。研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青,少数企业的加工过程中会有漆片。其中研磨粉的型号各异,一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。根据镜片的材质及研磨精度不同,选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的,以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。玻璃研磨过后,需要用超纯水进行产品的清洗,以获得高质量的产品。 硕科超纯水设备适应各种水质条件,处理效果好。
很多客户在使用超纯水设备的过程中,经常会反映一个问题,就是超纯水设备中的反渗透膜很容易出现水垢。业内人员表示,超纯水设备出现水垢后不仅会影响到超纯水设备的正常运行,也会影响到出水的水质,给人们使用设备带来了不便。那么,在使用过程中,我们应该怎么防止超纯水设备结水垢呢?据了解,超纯水设备在长时间使用的过程中,通过反渗透膜两侧的压力差作为动力,进行水交换,在水不断的交换的同时会导致大量的盐聚集,盐中含有大量的沉淀物质,时间长了就会发生结垢现象,结构严重就会纯净水的质量。因此,在使用的过程中我们要有效的预防这种情况出现。有技术人员表示,在使用超纯水设备的时候,要保持过滤器过滤速度,并且保持匀速,合理的过滤速度可以保证超纯水设备的净化效果。另外,在滤料的选择上,建议选择颗粒度大小基本一致的滤料,这样过滤出来的水就比较彻底。 碳酸锂新材料超纯水设备厂家。超纯水设备
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超纯水设备工艺流程如下:原水经过双级反渗透设备后,经过TOC脱除器降解有机物,随后进入EDI模块,出水水质可达15MΩ·CM以上,然后再经过二级TOC脱除器后进行深度降级TOC,使产水TOC下降至3ppb以下,之后进入脱气膜脱除溶解氧,然后进入核子级混床,使出水水质达到18.2MΩ·CM。硕科环保超纯水设备不仅具备简单、性能优良、耐久性好、适用性强等优点,其设备内部还配备高质量的膜元件,所得到的超纯水纯度高,无病毒、细菌、不含悬浮物质,不含化学物质污染,出水水质可以达到18兆欧以上,完全符合电子厂的用水标准。建湖超纯水设备价格多少