广东TU1无氧铜排加工

半导体刻蚀机用无氧铜排采用 C10100 超纯无氧铜，纯度≥99.99%，氧含量≤0.0005%，可避免在等离子体环境中释放杂质气体，影响晶圆刻蚀精度。其表面经电化学抛光，粗糙度 Ra≤0.02μm，粒子脱落率≤1 个 /ft³（≥0.1μm），满足 Class 1 级洁净室要求。铜排通过真空电子束焊接连接，焊缝强度≥200MPa，无氧化夹杂，确保在射频（13.56MHz）环境下的信号稳定性。在布局上，采用低电感设计（≤10nH），减少对射频电源的干扰，使刻蚀线宽偏差控制在 ±1nm 以内。适用于 7nm 及以下先进制程的半导体制造设备。弥散强化无氧铜排耐 200℃高温，适配新能源汽车电机控制器。广东TU1无氧铜排加工

家用机器人用柔性无氧铜排由 20 层 0.02mm 厚 TU1 铜箔叠合而成，总厚度 0.5mm，可实现 180° 折叠弯曲（弯曲半径 0.5mm），适配机器人关节的复杂运动轨迹。表面包覆 0.1mm 厚聚酰亚胺薄膜，耐温范围 - 50℃至 150℃，且具有耐油污、耐洗涤剂腐蚀性能。铜排的回路电阻≤20mΩ/m，可为机器人的驱动电机和传感器提供 5V/12V 混合供电，信号传输速率达 1Mbps。通过 10 万次弯曲测试，电阻变化≤15%，使家用机器人的运动寿命延长至 8 年，符合 IEC 60335-1 家用设备安全标准。无锡C10200无氧铜排批发真空钎焊无氧铜排气密性优异，用于航天器燃料管路连接。

海水淡化设备用无氧铜排采用 TP2 磷脱氧铜，添加 0.02% 砷元素增强抗氯腐蚀性能，在含氯浓度 3000ppm 的海水环境中，年腐蚀速率≤0.01mm。其表面采用电镀铌（铌层 5μm），形成钝化膜阻挡氯离子渗透，耐蚀性能达 ASTM G48 标准的 C 级。铜排截面尺寸 25mm×5mm，导电率≥98% IACS，为反渗透膜的高压泵（8MPa）提供 400V 电源，可日产淡水 100 吨。通过卫生安全测试（GB 5749），铜离子析出量≤0.1mg/L，确保淡化水符合饮用水标准，设备连续运行寿命达 8000 小时。

工业微波炉用无氧铜排采用 C10200 无氧铜，截面呈 U 型设计，在 2.45GHz 微波频率下的趋肤效应损耗≤0.3dB/m，可将磁控管产生的微波能量高效传输至加热腔。其表面镀银（厚度 3μm），配合冷却水套（流量 2L/min），在 10kW 输出功率下温升≤25K。铜排与磁控管的连接采用弹性触点，接触压力≥50N，确保在高频振动下的阻抗稳定性（50Ω±2%）。通过 IEC 60335-2-25 标准测试，该铜排在微波泄漏量（≤5mW/cm²）和电气安全方面均达标，使工业微波炉的热效率提升至 85% 以上。家用机器人无氧铜排可折叠，运动寿命 8 年。

工业机器人焊枪用无氧铜排采用 Cu-Cr-Zr 合金，在 300℃焊接高温下仍保持≥90% IACS 的导电率和≥300MPa 的抗拉强度，可承受 1000A 焊接电流的持续冲击。其表面采用等离子喷涂镍基合金（厚度 100μm），耐飞溅金属磨损和高温氧化，使用寿命达 5000 次焊接循环。铜排与电极的连接采用水冷结构（流量 1L/min），在焊接过程中温升≤50K，确保电流输出稳定（波动≤2%）。通过 ISO 15614 焊接标准测试，使焊接接头的强度达标率提升至 99%，适用于汽车车身的激光焊接和电弧焊接工艺。智能电网无氧铜排集成测温，实时监控电力系统状态。上海镀镍无氧铜排批发

轨交空调无氧铜排适配狭小空间，故障率降低 30%。广东TU1无氧铜排加工

真空钎焊无氧铜排以 TU1 无氧铜为基材（氧含量≤0.001%），在 10⁻⁴Pa 真空环境下采用银基钎料（Ag-Cu-Zn 合金）实现连接，焊缝气孔率≤0.5%，气密性达 1×10⁻⁹Pa・m³/s，是航天器推进系统燃料管路的**连接件。其钎焊温度严格控制在 780-820℃，保温时间 30-60 秒，既保证钎料充分润湿母材，又避免铜基体晶粒粗化（晶粒尺寸≤50μm）。焊接完成后经 700℃退火处理，导电率恢复至 101% IACS，同时保持≥220MPa 的抗拉强度。在半导体真空镀膜设备中，该铜排用于靶材与电源的连接，其焊缝平整度≤0.05mm，可减少等离子体鞘层扰动，使薄膜沉积均匀性提升至 ±2%。此外，其表面经喷砂处理（Ra=1.6μm），增强了与绝缘材料的结合力，满足高真空环境下的绝缘要求（击穿电压≥5kV/mm）。广东TU1无氧铜排加工