克力 TCU 曝光机系统：±0.01℃精控，护航先进制程

半导体与面板制造迈向 5nm 及以下纳米尺度，环境控制已成为决定晶圆良率与芯片性能的。在光刻曝光环节，温度波动一旦超过 ±0.1℃，就可能导致芯片线路微米级偏移，良率下降 15%-30%。基板曝光前表面温度能否保持均匀，直接关系到整条产线的稳定性。

一款 "高度集成" 的精密温控系统

克力（L-KELI）曝光机 TCU（Thermal Control Unit），并非传统意义上的空调，而是一套集精密温控与化学气体处理于一体的高度集成系统。空气经 TCU 处理后，温度控制精度可达目标温度±0.01℃，湿度精度±1%RH，可定制超高精密，温控可达±0.001°C、控湿±0.2%RH，温度传感器分辨率0.0001°C，把环境干扰压到极限，保证纳米/微米级图形长期稳定、高良率量产的工艺装备，贯穿半导体、面板、电子PCB、精密元件全产业链。

优势，直击行业痛点

其一，精度锁定良率。 曝光、涂布、显影工序通常要求 23±0.1℃、湿度 40%~50% RH。湿度过高会致光刻胶吸潮形变、金属氧化，过低则易引发静电放电，击穿敏感芯片栅极。克力 TCU 以 ±0.01℃温度精度、±1% RH 湿度精度，为产线构筑 "零波动" 环境屏障。

其二，气体过滤守护洁净。 系统集成化学气体处理单元，有效去除 SOx、NOx、VOCs、氨等分子级污染物（AMC），配合高频控制算法快速响应人员进出、设备启停等扰动，稳定锁定温湿度区间。

以中国精度，护航中国芯

从面板厂到晶圆厂，克力 TCU 凭借高精度、高集成的实力，对标先进制程标准，成为量产的必备门槛。以 ±0.01℃的精控，克力持续为先进制程的良率提升与工艺稳定注入动力，助力中国半导体产业稳步迈向自主可控。