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促裕新材料镀银添加剂系列工艺稳定多场景适配

来源: 发布时间:2025-11-01

一、Ag-902 光亮镀银添加剂:成熟工艺下的高纯度镀银典范

该系列凭借银含量≥99.99%(W/W)的高纯度与灵活工艺性,在市场应用中表现持续稳定。其兼容 “任意厚度镀银层转镀亮银、无氰镀后免洗” 工艺,采用全金属型光亮剂,操作把控便捷,镀层可焊性佳、接触电阻小,且能在较高电流密度下迅速沉积(镀层硬度维氏 100-130)。

长期以来,该产品在滚镀、挂镀、高速镀工艺场景中较广应用,为电子、饰品等行业的镀银需求提供了稳定可靠的工艺支持,深受客户认可。

二、Ag-935 光亮镀银添加剂:稳定工艺与高纯度的市场前选

Ag-935 系列以银含量≥99.99%(W/W)的高纯度,在市场中凭借工艺稳定性站稳脚跟。它可兼容 “任意厚度镀银层转镀亮银、无氰镀后免洗” 工艺,采用非金属型光亮剂,操作简便且不易分解;镀层可焊性、导电性优越,接触电阻小,高电流密度下沉积速度快(镀层硬度维氏 100-130HV)。
其工艺适配挂镀、滚镀,在滚镀、挂镀、高速镀场景中应用成熟,尤其在对镀层纯度和工艺稳定性要求严苛的领域,成为众多企业的长期选择。

三、Ag-938 镀银添加剂:综合性能优异的成熟工艺方案

Ag-938 系列凭借镀层光亮度强、可焊性 / 延展性 / 耐磨性俱佳的综合优势,在市场中应用较广。它兼容 “任意厚度镀银层转镀亮银、无氰镀后免洗” 工艺,添加剂操作把控便捷且不易分解,镀层可焊性好、接触电阻小,高电流密度下沉积速度快(镀层纯度达 99.994-99.995%,硬度维氏 1200-1500HV)。

该系列在挂镀、滚镀、高速镀工艺中表现成熟,适用于对镀层综合性能要求较高的各类场景,是市场验证后的可靠工艺选择。

四、Ag-91 半光亮镀银添加剂:电子元件镀银的成熟方案

作为镀银场景的成熟产品,Ag-91 半光亮镀银添加剂镀层呈半光亮,长期服务于电子元器件(如连接器、开关、触点等)镀银需求。镀层纯度≥99.9%,硬度保持在 75-85HV,耐磨性、耐变色性及焊锡性优越;镀液稳定性强,适配挂镀、滚镀工艺,在电子领域的滚镀、挂镀、高速镀场景中应用成熟

五、Ag-9360 光亮镀银添加剂:高纯度与有力沉积的成熟工艺之选

Ag-9360 系列以银含量≥99.99%(W/W)的高纯度,在市场中凭借有力沉积性能备受青睐。它兼容 “任意厚度镀银层转镀亮银、无氰镀后免洗” 工艺,采用全金属型光亮剂,操作把控便捷,镀层可焊性好、接触电阻小,高电流密度下沉积速度快(镀层硬度维氏 100-130HV)。

长期以来,其在挂镀、滚镀工艺中应用成熟,为滚镀、挂镀、高速镀场景的各类镀银需求提供了有力且稳定的工艺方案

六、CYAg-220 高速镀银添加剂:半导体领域的成熟高速镀方案

CYAg-220 是用于高速喷射选择性镀银工艺的成熟产品,长期服务于半导体材料、集成电路和连接器的高银耗生产领域。其中心优势历经市场检验:
  1. 镀层纯度高,含银量≥99.9%

  2. 可焊性、耐蚀性表现优越;

  3. 镀层光亮度可控,可通过添加剂灵活调节;

  4.       能有力防止锡或锡合金表面的银置换。

该系列在半导体电子领域的高速镀工艺中应用成熟,满足行业对 “高亮度、低接触电阻” 的严苛要求。

系列产品市场价值总结

  • 工艺成熟性:各系列经长期市场应用验证,工艺稳定、操作便捷,降低企业工艺试错成本;

  • 场景适配广:覆盖滚镀、挂镀、高速镀等多元施镀方式,兼容无氰镀后免洗等特殊工艺,适配电子、半导体、饰品等多行业需求;

  • 性能典范性:高银含量保证镀层导电性、可焊性,高硬度 / 高纯度特性满足领域品质要求;

  • 客户认可度:长期服务于市场,以稳定表现获得众多企业的持续选择。

未来,我司将继续基于市场需求,在现有成熟产品系列的基础上,持续优化升级,为电镀行业的工艺进步与品质提升提供更具价值的解决方案。


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