上海泰晟与您分享半导体行业用FM4910认证PVC

泰晟供三菱PVC板与您分享CVD设备在半导体中的应用

化学气相沉积（CVD）是利用气相化合物或含有薄膜元素的简单物质在基体表面发生化学反应形成薄膜涂层的技术。化学气相沉积（CVD）是制备高性能薄膜的一项重要技术，它具有均匀性好、薄膜覆盖率高、薄膜质量好、涂层纯度可控、混合涂层、基体复杂、涂层粉末、大气压或真空条件等特点，而低温合成化学气相沉积（CVD）技术的材料可以是气相化合物或单质，也可以是几种气相化合物或单质混合物。常见的材料主要有金属、合金、碳化物、硅化物、氮化物、氧化物、硫化物、硼化物等。有很多种材料可以使用。化学气相沉积技术可广阔应用于集成电路、半导离体、金属精炼、光伏电池、高科技陶瓷等制造领域，其中集成电路和半导体是主要的应用领域，化学气相沉积可分为大气压化学气相沉积（APCVD）、亚大气压化学气相沉积（sacvd）、低压化学气相沉积（LPCVD）、超高真空化学气相沉积（uhcvd）、快速热化学气相沉积（RTCVD）、等子体增强化学气相沉积（PECVD）、高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）、金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）等，PECVD是应用非常广的化学气相沉积技术，在成膜速度、台阶覆盖率、间隙填充、温度要求等方面综合性能突出，随着我国集成电路和半导体工业的迅速发展，其市场占比达到36%左右，规模在扩大，技术在进步。薄膜沉积相关设备的需求正在迅速增长。化学气相沉积是集成电路和半导体领域应用非常广阔的薄膜沉积技术。因此，我国对CVD设备的需求正在迅速上升。在此背景下，我国CVD装备制造企业开始增多，代表性企业主要有北华创、沈阳拓景、捷佳伟创、无锡松宇等，我国CVD装备产业技术实力薄弱，市场占比低，而外资企业占据主导地位。

业内人士分析，随着物联网、人工智能、工业自动化的日益普及，我国集成电路、半导体产业仍在蓬勃发展，对化学气相沉积技术的需求将继续增长。CVD设备产业发展前景良好。现阶段，我国CVD设备市场主要被国外企业占领。在未来的发展中，我国企业需要不断提高自己的竞争力，以实现本土化替代。

上海泰晟所供三菱PVC板除了在CVD设备上的应用外，其他应用场景为：

半导体液晶制造设备：气流室、自动化洁净设备、晶圆处理设备、石英管洁净设备、计量器面板等；无尘室设备：各种窥视窗材、门材、无尘室隔墙、无尘洞、隔板、风道等；

电镀设备：金属电解槽、电镀槽、滚镀、酸洗净槽、腐蚀液业槽、废液处理槽、槽衬、排气处理设备、化骨工风机、泵、中和槽、涤气机等；矿业、化工设备：反响吸收设备、稀土萃取槽、电解槽、贮藏槽、废液处理设备、机器外罩等；

腐蚀设备：无菌灌装设备视窗、腐蚀设备围栏、腐蚀槽等；

工业容器：肠衣槽、水槽、化工用立式/卧式储罐等；

PCB设备：蚀刻机、火山灰磨板机、脱模烘干机等；

自动化设备：硅片清洗机、电子玻璃清洗机；

印刷行业：广告丝印、警示牌及其他标志背板等；