专业BOE蚀刻液价格

酸性蚀刻是制造印刷电路板过程中必不可少的工序，酸性蚀刻工序利用酸性蚀刻液在蚀刻机内完成。酸性蚀刻液包括酸性蚀刻子液和酸性蚀刻母液。通过再生循环方法提取铜回收废液继续使用，可以明显减少环境的污染，电解反应是通过阳极的氧化作用使一价铜变为二价铜，使得蚀刻液恢复再生能力，而阴极则通过还原作用来沉积铜，使得蚀刻液具备蚀刻的负载能力。但是会产生氯离子，阳极存在氯气析出的问题。氯气的析出不只危害了车间工人的健康，产生空气污染。BOE蚀刻液苏州博洋化学股份有限公司。专业BOE蚀刻液价格

BOE就是buffer oxide etch，缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸（49%）与水或氟化铵与水混合而成， B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液：40%NH4F水溶液=1：6（体积比）的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液，NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度，使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质，对皮肤有强烈的腐蚀性，如果不小心被溅到，应用大量水冲洗。专业BOE蚀刻液价格BOE蚀刻液推荐苏州博洋化学股份有限公司。

在PCB行业中会产生大量微蚀液、蚀刻液、硝酸铜等含有不同浓度的重金属废水，如果不进行处理就直接排放一方面造成资源的严重浪费，另一方面还会严重影响我们环境和自身健康！ 以前对于这些废液的处理方法是通过投加大量的药剂实现的，但是传统的加化学药剂，操作成本高，且造成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高（溶解性盐类造成），导致废水回用难度加大或者根本无法回收使用的后续问题。因此现在一般都是使用提取再生的方式，蚀刻液提取再生的方法有酸性、碱性两大系统，可将大量的废蚀刻液提取再生成为新的蚀刻液。

    三氯化铁蚀刻液在印制电路、电子和金属精饰等工业中被采用，一般用来蚀刻铜、铜合金、不锈钢、铁及锌、铝等。虽然近些年来越来越要求再生容易，更加环保的蚀刻液，但由于三氯化铁蚀刻液它的工艺稳定，操作方便，价格便宜，因此还仍然被广大蚀刻加工企事业单位采用。三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、镀金抗蚀层等抗蚀层的印制板的蚀刻。（但不适用于镍、锡、锡－铅合金等抗蚀层）1.蚀刻时的主要化学反应三氯化铁蚀刻液对铜箔的蚀刻是一个氧化－还原过程。在铜表面Fe3+使铜氧化成氯化亚铜。同时Fe3+被还原成Fe2+。FeCl3＋Cu→FeCl2＋CuClCuCl具有还原性，可以和FeCl3进一步发生反应生成氯化铜。FeCl3＋CuCl→FeCl2＋CuCl2Cu2+具有氧化性，与铜发生氧化反应：CuCl2＋Cu→2CuCl所以，FeCl3蚀刻液对Cu的蚀刻时靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蚀刻速率快，蚀刻质量好；而Cu2+的蚀刻速率慢，蚀刻质量差。新配制的蚀刻液中只有Fe3+，所以蚀刻速率较快。但是随着蚀刻反应的进行，Fe3+不断消耗，而Cu2+不断增加。当Fe3+消耗掉35％时，Cu2+已增加到相当大的浓度，这时Fe3+和Cu2+对Cu的蚀刻量几乎相等；当Fe3+消耗掉50％时。BOE蚀刻液请认准苏州博洋化学。

根据权利要求1至3中任一项所述的蚀刻液，其特征在于，进一步含有α-羟基羧酸和/ 或α-羟基羧酸的盐。 根据权利要求4所述的蚀刻液，其特征在于，所述α-羟基羧酸为选自由酒石酸、苹果酸、柠檬酸、乳酸及甘油酸所组成的群组中的至少一种。 根据权利要求1至5中任一项所述的蚀刻液，其特征在于，所述酸的浓度为20重量％至70重量％；所述有机硫化合物的浓度为0.01重量％至10重量％。 根据权利要求4至6中任一项所述的蚀刻液，其特征在于，所述α-羟基羧酸和/或α-羟基羧酸的盐的浓度为0.2重量％至5重量％。苏州博洋化学股份有限公司欢迎新老朋友咨询。专业BOE蚀刻液价格

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苏州博洋化学股份有限公司成立于1999年，公司座落于苏州市高新区化工工业园，是一家集研发、生产、销售为一体的大型精细化工企业，主要为先进半导体封装测试、TFT、FPD平板显示、LED、晶体硅太阳能、PCB等行业提供专业的化学品解决方案。努力构建面向未来的创新型和学习型企业。博洋股份于2015年11月在全国中小企业股份转让系统成功挂牌。（证券代码：834329）拥有先进的理化分析、应用测试仪器以及一支以本科、硕士、博士为主的多层次研发团队，致力于超净高纯、功能性微电子化学品的研究开发;并根据客户的个性化需求量身定制整套化学品解决方案，力求持续的为客户创造价值。博洋除拥有完善的自主研发能力外，与华东理工大学共同建立省级研究生工作站;长期保持与苏州大学、中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所的合作关系，以辅助新产品的开发测试。对新技术、新工艺的研究精益求精，立志成为微电子材料领域个性化解决方案的***