酸铜填平的原理 含氮,长链高分子化含物(如酸铜A剂中的红,黑,紫,蓝染料等)都是填平剂的比较好选择,但如果没有氯离子和含硫化学物的情况下,再多的填平剂也是无任何填平效果的,因此,镀液中的氯离子需要定期分析,这是酸铜填平的**基础力量。而含硫化学物在德系的酸铜光亮剂中一般分布在B剂或开缸剂中。过多的含硫化合物,镀层容易发雾,特别是低电流密度区。而不足量的硫化物,会导致光亮度和填平度(特别是低位填平度)一齐下降。因此,当酸铜镀液的填平能力出问题的时候,不要一直盲目地加A剂,可考虑B剂和开缸剂是否不足又或者过量呢?消耗量的提升,多是以Mu代替B剂进行补加造成的。只要协调得好,市售的许多酸铜添加剂都有良好的整平性。该产品稳定性好,镀层近似镍层外观,有氰无氰随心转换。深圳制作酸铜光亮剂联系方式
化学镀镍广泛应用于大部分金属及非金属材料如铜、不锈钢、铝及铝合金、镁合金、塑料、纤维、陶瓷等基体技术防护;铝或钢材料这类非贵金属基底可以用化学镀镍,并可避免用难以加工的个锈钢来提高它们的表面性质。比较软的、不耐磨的基底可以用化学镀镍赋予坚硬耐磨的表面。在许多情况下,用化学镀镍代替镀硬铬有许多优点。特别对内部镀层和镀复杂形状的零件,以及硬铬层需要镀后机械加工的情况。一些基底使用化学镀镍可使之容易钎焊或改善它们的表面性质。光明区购买酸铜光亮剂无论进口或者国产的酸铜光亮剂,能够在手抛黄铜片上起到鱼纹状打气纹。
图形转移工序:显影有余胶(极薄的残膜电镀时也可以镀上并被包覆),或显影后后清洗不干净,或板件在图形转移后放置时间过长,造成板面不同程度的氧化,特别是板面清洗不良状况下或存放车间空气污染较重时。解决方法也就是加强水洗,加强计划安排好进度,加强酸性除油强度等。酸铜电镀槽本身,此时其前处理,一般不会造成板面铜粒,因为非导电性颗粒**多造成板面漏镀或凹坑。铜缸造成板面铜粒的原因大概归纳为几方面:槽液参数维护方面,生产操作方面,物料方面和工艺维护方面。槽液参数维护方面包括硫酸含量过高,铜含量过低,槽液温度低或过高,特别没有温控冷却系统的工厂,此时会造成槽液的电流密度范围下降,按照正常的生产工艺操作,可能会在槽液中产生铜粉,混入槽液中;
1)密度:镍的密度在20℃时为8.91g/cm3。含磷量1~4%时为8.5g/cm3;含磷量7~9%时为8.1g/cm3;含磷量10~12%时为7.9g/cm3。镀层密度变化的原因不完全是溶质原子质量的不同,还与合金化时点阵参数发生变化有关。2)热学性质:热膨胀系数是用来表示金属尺寸随温度的变化规律,一般是指线膨胀系数μm/m/℃。化学镀Ni-P(8~9%)的热膨胀系数在0~100℃内为13μm/m/℃。电镀镍相应值为12.3~13.6μm/m/℃。热传导系数可以从电导率计算。化学镀镍的热导率比电镀镍低,在4.396~5.652W/(m·K)范围。因此,当酸铜镀液的填平能力出问题的时候,不要一直盲目地加A剂。
电流小而电镀时间又短。文献指出,基体表面显微凹陷深度越小,添加剂的整平性越好。例如:凹陷深度分别为(单位μm)23、59、90、时,整平性(%)分别为96、61、49。假设磨光后凹陷深度为20μm时,整平性能达100%(超过100%则称为超整平了)那么,镀层厚度应达20μm时,才可能完全整平而不可见砂路。当阴极电流密度小而电镀时间又短时,镀层厚度远达不到20μm,则必然砂路明显。只有当镀前磨抛使基体表面凹陷深度小于1μm且光亮剂中含有整平性特别好的组分(例如具超整平能力的生物染料JGB之类时,工件低JK范围才具不明显砂路。(且JK应足够大、电镀时间应足够长。)消耗量的提升,多是以Mu代替B剂进行补加造成的。宝安区批发酸铜光亮剂
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市售的酸铜添加剂,性能和质量参差不齐,多有电镀朋友问如何选用酸铜添加剂,或有更深的问题涉及到如何筛选质量的添加剂。供同行朋友的技术参考,欢迎加拍砖。填平能力: 酸铜添加剂的填平性能是选用时的首要条件之一,有经验的工程师或师傅喜欢打赫氏片以确定酸铜的性能;但酸铜填平度在手功砂纸打拋黄铜片的表面是更容易比较出来的。一般而言,无论进口或者国产的酸铜光亮剂,能够在手抛黄铜片上起到鱼纹状打气纹,即可初步判断出其有一定的填平能力。但这种条纹状的打气纹是否在高中低位都有,就是酸铜填平能力的另一层表现。如果不能在中低位有出色的填平,这种酸铜光亮剂的在做货时,对复杂工件的出光速度将是极有影响的。进口酸铜都能够提供较好的高中低位的较好填平度。深圳制作酸铜光亮剂联系方式