光学平面研磨抛光加工简介光学抛光研磨的简述光学加工是一个非常复杂的过程。难以通过单一加工方法加工满足各种加工质量指标要求的光学元件。光学平面研磨和抛光的基础是加工材料的微去除。实现这种微去除的方法包括研磨加工、微粉颗粒抛光和纳米材料抛光。根据不同的加工目的选择不同的加工方法。光学平面的超精密加工通常需要粗磨、细磨和抛光,以不断提高加工零件的表面精度并降低表面粗糙度。超精密磨削的范围很广,主要包括机械磨削、弹性发射加工、浮动磨削等加工方法。光学平面磨削技术通常是指利用硬度高于待加工材料的微米级磨粒,在硬磨盘的作用下产生微切削和滚压作用,去除待加工表面的微量材料,减少加工变质层,降低表面粗糙度,达到工件形状和尺寸精度的目标值。以氧化铝陶瓷光盘的双面加工为例,介绍和分析了光学平面的一般加工工艺,并实现了加工工艺。根据光学平面的加工质量要求,首先分析加工要求,进行工艺设计,然后选择合适的工艺和方法,确定各工序达到的精度,蕞后进行加工实践,达到预定的加工目标。针对氧化铝陶瓷盘的平面度要求,采用金刚石微粉大块磨料磨削工艺进行磨削加工,并根据当前加工的表面形状进行调整,蕞终达到平面度要求。温州市百诚研磨机械有限公司致力于提供双面研磨机,有想法的可以来电咨询!台州机械密封抛光研磨机销售厂
双面研磨机是用涂上或嵌入磨料的研具,对工件双面进行研磨的磨床,一次性可以同时对工件的正反两个面同时进行研磨抛光;下面我门来看一下关于双面研磨机加工方法:干研磨:研磨时只需在研具表面涂以少量的润滑附加剂。砂粒在研磨过程中基本固定在研具上,它的磨削作用以滑动磨削为主。这种方法生产率不高,但可达到很高的加工精度和较小的表面粗糙度值(~μm)。湿研磨:在研磨过程中将研磨剂涂在研具上,用分散的砂粒进行研磨。研磨剂中除砂粒外还有煤油、机油、油酸、硬脂酸等物质。在研磨过程中,部分砂粒存在于研具与工件之间,如图8-12b所示。此时砂粒以滚动磨削为主,生产率高,表面粗糙度~μm,一般作粗加工用,但加工表面一般无光泽。软磨粒研磨:在研磨过程中,用氧化铬作磨料的研磨剂涂在研具的工作表面,由于磨料比研具和工件软,因此研磨过程中磨料悬浮于工件与研具之间,主要利用研磨剂与工件表面的化学作用,产生很软的一层氧化膜,凸点处的薄膜很容易被磨料磨去。上海半导体双面研磨机销售厂家双面研磨机,就选温州市百诚研磨机械有限公司,让您满意,欢迎您的来电!
双单面研磨机特点介绍双单面研磨机是高精度平面加工设备,有着强度高的度机械构造和稳定的精度。双单面研磨机主要作为石英晶体片、硅、锗片、玻璃、陶瓷片、活塞环、阀板、阀片、轴承、钼片、蓝宝石、等各种片状金属、其他圆盘类零件的研磨,非金属零件的单面研磨。双单面研磨机的主要特点:1.双单面研磨机采用了自动供给研磨液装置,采用平面加压形式,在开放式设备上配备了加压气缸,研磨压力分轻、重、轻可随意调节压力,易于精密研磨。2.双单面研磨机采用变频调速电机驱动,配置大功率减速系统,软启动、软停止,运转平稳。3.太阳轮可以正反方向转动,游星轮自转方向可以改变,工件在载体内作既公转且自转的游星运动。4.双单面研磨机机床造型及内部结构充分考虑了操作和维修的方便性。5.研磨盘的平面度可以通过修整齿轮自动修正,研磨量由文本显示器计时控制,电机变频调速,启停平稳,并能选择理想的磨削速度。
陶瓷平面研磨机中采用超声波振动修整法,能使工件迅速达到理想的镜面效果,主要由超声波发生器、换能器等所组成,在进行修整的时候,会将超声波振动修整的装置调到振动状态,当修整磨粒的时候会通过砂轮与修整的元件之间的时候,会利用修整的元件进行能量的传递,能够有效的去除砂轮表面的几何级,使其磨粒会突出砂轮的表面。新一代陶瓷平面研磨机为精密研磨抛光设备,被磨、抛材料放于平整的研磨盘上,研磨盘逆时钟转动,修正轮带动工件自转,重力加压或其它方式对工件施压,工件与研磨盘作相对运转磨擦,来达到研磨抛光目的,由于这种方法主要是采用振动方式,在修整磨粒的本身会带有一定的能量,因此能够得到比较良好的修整效果,用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、诸片、模具、导光板、光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。温州市百诚研磨机械有限公司致力于提供单面抛光研磨机,欢迎您的来电哦!
在大部分情况下,工件是浮动压在磨具上,其运动规律是未知的。因此,要对工件受力进行分析,才能求出其受力状态及运动规律。取工件为整个研磨系统的分离体,建立工件受力平衡微分方程,求解该方程就能得到工件的运动规律。机械密封件研磨机主机采用调速电机驱动,配置大功率减速系统,软启动、软停止,运转平稳。通过上、下研磨盘、太阳轮、游星轮在加工时形成四个方向、速度相互协调的研磨运动,达到上下表面同时研磨的运作。下研磨盘可升降,方便工件装卸。气动太阳轮变向装置,精确控制工件两面研磨精度和速度。随机配有修正轮,用于修正上下研磨盘的平行误差。研磨篮式机械密封件研磨机继承了篮式机械密封件研磨机分散研磨两道工序在一台机器、一道工序上实现的特点,同时还可以作为分散机单独使用(当分散盘在工作位置,研磨篮未下降时)。对于需要研磨的物料,又可以实现先分散后研磨的功能(当研磨篮下降到工作位时,可对物料进行率的精研磨)。温州市百诚研磨机械有限公司致力于提供双面研磨机,有需要可以联系我司哦!东莞平面研磨机生产商
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正确处理双面研磨机进行研磨的运动轨迹是提高研磨质量的重要条件。在平面研磨中,一般要求:①工件相对研具的运动,要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近;②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面,以利于研具均匀磨损;③运动轨迹的曲率变化要小,以保证工件运动平稳;④工件上任一点的运动轨迹尽量避免过早出现周期性重复。为了减少切削热,研磨一般在低压低速条件下进行。粗研的压力不超过 0.3兆帕,精研压力一般采用0.03~0.05兆帕。粗研速度一般为20~120米/分,精研速度一般取10~30米/分。台州机械密封抛光研磨机销售厂