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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。合肥真萍试验箱的运用领域！大型试验箱批发

下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。 一、产品介绍 真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。 二、设计特点 1.后门设计热风电机 2.降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向 3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的。小型试验箱维修试验箱的功能具体介绍。

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。下面为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的箱体结构。1.本设备由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2.箱体采用先进设备制作、业内优良工艺制造流程、线条流畅，美观大方。3.工作室材质为不锈钢SUS304材质，外箱材质为优良冷轧钢板，产品外壳采用环保金属漆喷制，整体设计美观大方，适合实验室的颜色搭配。4.工作室内搁架可随用户的要求任意调节高度以及搁架的数量。5.工作室与外箱之间的保温材料为优良超细玻璃纤维保温棉，保温层厚度：＞70mm,隔温效果好，高性能的绝缘结构。从里到外有内腔、内壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层，内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特，极大减少了内腔热量的外传。

下面为大家介绍一下高温钟罩炉的各项系统。一、气氛系统。1.炉膛气氛：2路空气，流量计量程为7～70L/min，每路流量可调节；2.排气系统：在炉膛顶部设置一个排气囱，用于废气排放。二、传动系统1.传动方式：升降式2.传动类型：电动推杆传动3.容积：20L三、冷却系统1.冷却结构：无2.产品降温：随炉降温四、安全保护1.升、降、停按钮：载料台的升、降、停控制2.报警指示：超温、断偶、过载、超程、偏差等声光报警3.设备安全升温速率≤5℃/min试验箱的基本结构级应用！

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家简单介绍一下无氧干燥箱。 1.技术指标与基本配置： 1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃； 1.2炉膛腔数:2个,上下布置； 1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度 1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪； 2.氧含量（配氧分析仪）： 2.1高温状态氧含量：≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量：≤ 20ppm +气源氧含量 2.2控温稳定度：±1℃； 2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；试验箱如何发挥重要作用？合肥真萍告诉您。厦门小型试验箱

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真空烘箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空烘箱的特点。1.长方体工作室，使有效容积达到相当大，微电脑温度控制器，精确控温。2.钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体，一目了然。3.箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。大型试验箱批发